Informacja

Drogi użytkowniku, aplikacja do prawidłowego działania wymaga obsługi JavaScript. Proszę włącz obsługę JavaScript w Twojej przeglądarce.

Wyszukujesz frazę "SOI" wg kryterium: Temat


Wyświetlanie 1-2 z 2
Tytuł:
Capacitance/Resistance Modeling and Analog Performance Evaluation of 3-D SOI FinFET Structure for Circuit Perspective Applications
Autorzy:
Jain, Neeraj
Raj, Balwinder
Powiązania:
https://bibliotekanauki.pl/articles/1159723.pdf
Data publikacji:
2018
Wydawca:
Przedsiębiorstwo Wydawnictw Naukowych Darwin / Scientific Publishing House DARWIN
Tematy:
CMOS
Integrated Circuits
Parasitic Capacitance
Parasitic Resistance
SOI FinFET
Opis:
This paper explores the capacitance and resistance modeling of 3-D (dimensional) SOI FinFET structure and circuit implementation approach is done for the utility of SOI FinFET structure. The scaling of the FinFET structure is continuously ongoing and increased parasitic and resistance affects the circuit level performance of SOI FinFET in ICs (Integrated Circuits) below 20 nm technology node. A geometrical-based analysis is done to get the optimized parasitic capacitance and resistance model and validity of the model is verified by three-dimensional (3-D) field solver Synopsys Raphael software. For utility of the developed model, some circuit implementation is done in h-spice simulation environment.
Źródło:
World Scientific News; 2018, 113; 194-209
2392-2192
Pojawia się w:
World Scientific News
Dostawca treści:
Biblioteka Nauki
Artykuł
Tytuł:
Low frequency noise in advanced Si bulk and SOI MOSFETs
Autorzy:
Jomaah, J.
Balestra, F.
Ghibaudo, G.
Powiązania:
https://bibliotekanauki.pl/articles/308980.pdf
Data publikacji:
2005
Wydawca:
Instytut Łączności - Państwowy Instytut Badawczy
Tematy:
CMOS
SOI
low frequency noise
kink-related excess noise
DTMOS
Opis:
A review of recent results concerning the low frequency noise in modern CMOS devices is given. The approaches such as the carrier number and the Hooge mobility fluctuations used for the analysis of the noise sources are presented and illustrated through experimental data obtained on advanced CMOS SOI and Si bulk generations. Furthermore, the impact on the electrical noise of the shrinking of CMOS devices in the deep submicron range is also shown. The main physical characteristics of random telegraph signals (RTS) observed in small area MOS transistors are reviewed. Experimental results obtained on 0.35-0.12 žm CMOS technologies are used to predict the trends for the noise in future CMOS technologies, e.g., 0.1 žm and beyond. For SOI MOSFETS, the main types of layout will be considered, that is floating body, DTMOS, and body-contact. Particular attention will be paid to the floating body effect that induces a kink-related excess noise, which superimposes a Lorentzian spectrum on the flicker noise.
Źródło:
Journal of Telecommunications and Information Technology; 2005, 1; 24-33
1509-4553
1899-8852
Pojawia się w:
Journal of Telecommunications and Information Technology
Dostawca treści:
Biblioteka Nauki
Artykuł
    Wyświetlanie 1-2 z 2

    Ta witryna wykorzystuje pliki cookies do przechowywania informacji na Twoim komputerze. Pliki cookies stosujemy w celu świadczenia usług na najwyższym poziomie, w tym w sposób dostosowany do indywidualnych potrzeb. Korzystanie z witryny bez zmiany ustawień dotyczących cookies oznacza, że będą one zamieszczane w Twoim komputerze. W każdym momencie możesz dokonać zmiany ustawień dotyczących cookies