Informacja

Drogi użytkowniku, aplikacja do prawidłowego działania wymaga obsługi JavaScript. Proszę włącz obsługę JavaScript w Twojej przeglądarce.

Wyszukujesz frazę "Hoffman, J." wg kryterium: Autor


Wyświetlanie 1-1 z 1
Tytuł:
Mobility of Holes in Nanometer Ge-on-Si p-Type Metal-Oxide-Semiconductor Field-Effect Transistors at Low Temperatures
Autorzy:
Grigelionis, I.
Fobelets, K.
Vincent, B.
Mitard, J.
De Jaeger, B.
Simoen, E.
Hoffman, T.
Yavorskiy, D.
Łusakowski, J.
Powiązania:
https://bibliotekanauki.pl/articles/1492960.pdf
Data publikacji:
2011-11
Wydawca:
Polska Akademia Nauk. Instytut Fizyki PAN
Tematy:
72.20.My
85.30.Tv
Opis:
We investigated magnetoresistance of p-type Ge-on-Si metal-oxide-semiconductor field-effect transistors in order to determine the hole mobility μ as a function of the gate polarization $(V_{G})$. Measurements were carried out at 4.2 K and magnetic fields up to 10 T. The signal measured was proportional to the derivative of the transistor resistance with respect to $V_{G}$. To determine the hole mobility we developed a method to treat the measured signal which is based on a numerical solution of a differential equation resulting from the theoretical description of the experimental procedure. As a result, we obtained a non-monotonic $μ(V_{G})$ dependence which is a characteristic feature of the carrier transport in gated two-dimensional structures.
Źródło:
Acta Physica Polonica A; 2011, 120, 5; 933-935
0587-4246
1898-794X
Pojawia się w:
Acta Physica Polonica A
Dostawca treści:
Biblioteka Nauki
Artykuł
    Wyświetlanie 1-1 z 1

    Ta witryna wykorzystuje pliki cookies do przechowywania informacji na Twoim komputerze. Pliki cookies stosujemy w celu świadczenia usług na najwyższym poziomie, w tym w sposób dostosowany do indywidualnych potrzeb. Korzystanie z witryny bez zmiany ustawień dotyczących cookies oznacza, że będą one zamieszczane w Twoim komputerze. W każdym momencie możesz dokonać zmiany ustawień dotyczących cookies