Informacja

Drogi użytkowniku, aplikacja do prawidłowego działania wymaga obsługi JavaScript. Proszę włącz obsługę JavaScript w Twojej przeglądarce.

Wyszukujesz frazę "GaSb" wg kryterium: Wszystkie pola


Wyświetlanie 1-2 z 2
Tytuł:
Electrical Properties of GaInAsSb/GaSb/GaAlAsSb Double Heterostructure with Low Diameter
Autorzy:
Kucur, B.
Ahmetoglu, M.
Andreev, I.
Kunitsyna, E.
Mikhailova, M.
Yakovlev, Y.
Powiązania:
https://bibliotekanauki.pl/articles/1194577.pdf
Data publikacji:
2014-02
Wydawca:
Polska Akademia Nauk. Instytut Fizyki PAN
Tematy:
73.40.-c
78.66.-w
85.60.Dw
Opis:
GaInAsSb/GaSb/GaAlAsSb double heterostructures are attractive for optoelectronic devices working in the 1.5-4.8 μm wavelength region. In this paper, the current mechanisms of liquid phase epitaxy grown GaInAsSb based double heterostructures with 100 μm diameter were investigated in the temperature range 77-350 K. It was found that diffusion current dominates at the high temperature (> 240 K) and small forward bias region, while generation-recombination current dominates at intermediate temperatures (242-171 K). At low temperature region (< 171 K), the tunneling mechanism of the current flow dominates in both forward and reverse biases.
Źródło:
Acta Physica Polonica A; 2014, 125, 2; 411-413
0587-4246
1898-794X
Pojawia się w:
Acta Physica Polonica A
Dostawca treści:
Biblioteka Nauki
Artykuł
Tytuł:
Structure and Optical Properties of Silicon Layers with GaSb Nanocrystals Created by Ion-Beam Synthesis
Autorzy:
Komarov, F.
Vlasukova, L.
Milchanin, O.
Mudryi, A.
Dunetz, B.
Wesch, W.
Wendler, E.
Karwat, C.
Powiązania:
https://bibliotekanauki.pl/articles/1503945.pdf
Data publikacji:
2011-07
Wydawca:
Polska Akademia Nauk. Instytut Fizyki PAN
Tematy:
61.80.-x
61.72.Ff
63.20.-e
78.66.-w
Opis:
We have studied the ion-beam synthesis of GaSb nanocrystals in Si by high-fluence "hot" implantation of Sb and Ga ions followed by thermal annealing. The Rutherford backscattering, transmission electron microscopy/transmission electron diffraction, Raman spectroscopy and photoluminescence were used to characterize the implanted layers. It was found that the nanocrystal size increases from 5 to 60 nm in the samples annealed at 900°C up to 20-90 nm in those annealed at 1100°C. For the samples annealed at 900°C a broad band in the region of 0.75-1.05 eV is registered in the photoluminescence spectra. The nature of this photoluminescence band is discussed.
Źródło:
Acta Physica Polonica A; 2011, 120, 1; 87-90
0587-4246
1898-794X
Pojawia się w:
Acta Physica Polonica A
Dostawca treści:
Biblioteka Nauki
Artykuł
    Wyświetlanie 1-2 z 2

    Ta witryna wykorzystuje pliki cookies do przechowywania informacji na Twoim komputerze. Pliki cookies stosujemy w celu świadczenia usług na najwyższym poziomie, w tym w sposób dostosowany do indywidualnych potrzeb. Korzystanie z witryny bez zmiany ustawień dotyczących cookies oznacza, że będą one zamieszczane w Twoim komputerze. W każdym momencie możesz dokonać zmiany ustawień dotyczących cookies