Informacja

Drogi użytkowniku, aplikacja do prawidłowego działania wymaga obsługi JavaScript. Proszę włącz obsługę JavaScript w Twojej przeglądarce.

Wyszukujesz frazę "Lima, Å." wg kryterium: Autor


Wyświetlanie 1-1 z 1
Tytuł:
Study on the Structure of Defects in a-Si:H Films by Positron Annihilation and Micro-Raman Spectroscopy
Autorzy:
Gordo, P.
de Lima, A.
Ferreira Marques, M.
Kajcsos, Zs.
Powiązania:
https://bibliotekanauki.pl/articles/1812497.pdf
Data publikacji:
2008-05
Wydawca:
Polska Akademia Nauk. Instytut Fizyki PAN
Tematy:
78.66.Jg
78.70.Bj
78.30.Ly
Opis:
Thin films of hydrogenated amorphous silicon deposited on glass and crystalline silicon substrates by rf plasma enhanced chemical vapor deposition at different rf power were studied using slow positron beam and the Raman scattering spectroscopy in order to verify the influence of that deposition parameter on the film defect structure and on the degree of disorder. By positron annihilation spectroscopy, it was found that there are mainly two types of defects in the films: large vacancy clusters or voids and small vacancy type defects. By micro-Raman spectroscopy it was observed that the degree of structural disorder is lower for the film with large vacancy clusters and this finding was related to structural relaxation process. Light soaking induced changes attributed to major atomic rearrangements were also observed.
Źródło:
Acta Physica Polonica A; 2008, 113, 5; 1373-1378
0587-4246
1898-794X
Pojawia się w:
Acta Physica Polonica A
Dostawca treści:
Biblioteka Nauki
Artykuł
    Wyświetlanie 1-1 z 1

    Ta witryna wykorzystuje pliki cookies do przechowywania informacji na Twoim komputerze. Pliki cookies stosujemy w celu świadczenia usług na najwyższym poziomie, w tym w sposób dostosowany do indywidualnych potrzeb. Korzystanie z witryny bez zmiany ustawień dotyczących cookies oznacza, że będą one zamieszczane w Twoim komputerze. W każdym momencie możesz dokonać zmiany ustawień dotyczących cookies