Informacja

Drogi użytkowniku, aplikacja do prawidłowego działania wymaga obsługi JavaScript. Proszę włącz obsługę JavaScript w Twojej przeglądarce.

Wyszukujesz frazę "Ochalski, T. J." wg kryterium: Wszystkie pola


Wyświetlanie 1-2 z 2
Tytuł:
Photoreflectance Studies of InGaAs/GaAs/AlGaAs Single Quantum Well Laser Structures
Autorzy:
Ochalski, T. J.
Żuk, J.
Regiński, K.
Bugajski, M.
Powiązania:
https://bibliotekanauki.pl/articles/1992051.pdf
Data publikacji:
1998-09
Wydawca:
Polska Akademia Nauk. Instytut Fizyki PAN
Tematy:
78.66.Fd
78.20.-e
Opis:
We report on photoreflectance investigations of strained-layer In$\text{}_{0.2}$Ga$\text{}_{0.8}$As/GaAs/Al$\text{}_{0.3}$Ga$\text{}_{0.7}$As single quantum well laser structures grown by molecular beam epitaxy. All the observed photoreflectance spectral features were assigned to the e-hh transitions with Δn=0. The transition energies were determined and compared to their values calculated within the envelope function approximation. Assuming that one third of the total strain in the central In$\text{}_{0.2}$Ga$\text{}_{0.8}$As layer is relaxed by biaxial deformation of surrounding thin GaAs layers, it is possible to explain reasonably the results of our photoreflectance experiment.
Źródło:
Acta Physica Polonica A; 1998, 94, 3; 463-467
0587-4246
1898-794X
Pojawia się w:
Acta Physica Polonica A
Dostawca treści:
Biblioteka Nauki
Artykuł
Tytuł:
Effect of Epitaxial Layer Thickness on Built-in Electric Field in Region of AlGaAs/SI-GaAs Interface: A Photoreflectance Study
Autorzy:
Ochalski, T. J.
Żuk, J.
Vlasukova, L. A.
Powiązania:
https://bibliotekanauki.pl/articles/1968408.pdf
Data publikacji:
1997-11
Wydawca:
Polska Akademia Nauk. Instytut Fizyki PAN
Tematy:
78.66.Fd
78.20.-e
Opis:
We present a study of detailed line shapes of photoreflectance spectra for Al$\text{}_{0.3}$Ga$\text{}_{0.7}$ As/SI-GaAs epitaxial layers grown by MBE. All measurements were performed at 80 K under UHV conditions with a special care for the samples surface quality. A set of the photoreflectance spectra was collected for photon energies close to the GaAs and Al$\text{}_{0.3}$Ga$\text{}_{0.7}$As band gaps (E$\text{}_{0}$). The photoreflectance spectra originated in the vicinity of the Al$\text{}_{0.3}$Ga$\text{}_{0.7}$As/SI-GaAs interface were analyzed using the complex Airy function model of Franz-Keldysh oscillations. To examine the effect of the epitaxial layer thickness on parameters characterizing the interface, a step-by-step chemical etching was applied for stripping the top layers. The built-in electric field intensity, field inhomogeneity and phenomenological broadening parameter for interface regions were determined as a function of the epilayer thickness.
Źródło:
Acta Physica Polonica A; 1997, 92, 5; 935-939
0587-4246
1898-794X
Pojawia się w:
Acta Physica Polonica A
Dostawca treści:
Biblioteka Nauki
Artykuł
    Wyświetlanie 1-2 z 2

    Ta witryna wykorzystuje pliki cookies do przechowywania informacji na Twoim komputerze. Pliki cookies stosujemy w celu świadczenia usług na najwyższym poziomie, w tym w sposób dostosowany do indywidualnych potrzeb. Korzystanie z witryny bez zmiany ustawień dotyczących cookies oznacza, że będą one zamieszczane w Twoim komputerze. W każdym momencie możesz dokonać zmiany ustawień dotyczących cookies