Informacja

Drogi użytkowniku, aplikacja do prawidłowego działania wymaga obsługi JavaScript. Proszę włącz obsługę JavaScript w Twojej przeglądarce.

Wyszukujesz frazę "Dz 15" wg kryterium: Temat


Wyświetlanie 1-2 z 2
Tytuł:
Substrates Grown from the Vapor for ZnO Homoepitaxy
Autorzy:
Skupiński, P.
Kopalko, K.
Łusakowska, E.
Domukhovski, V.
Jakieła, R.
Mycielski, A.
Grasza, K.
Powiązania:
https://bibliotekanauki.pl/articles/1811990.pdf
Data publikacji:
2008-11
Wydawca:
Polska Akademia Nauk. Instytut Fizyki PAN
Tematy:
81.05.Dz
68.47.Fg
68.55.J-
68.37.Ps
81.10.Bk
81.15.-z
Opis:
The novel method of preparation of epi-ready ZnO substrates is demonstrated. The substrates were made of unique ZnO crystals grown by chemical vapor transport method using hydrogen as the transport agent. The effect of low-level doping (Mn, Co, Cu, and V) on the structural quality of the crystals was investigated. Atomic layer deposition was used to verify usability of the substrates for homoepitaxy. The thermal annealing prior to the atomic layer deposition process and effect of thermal annealing of the epitaxial layers was studied. The X-ray diffraction and atomic force microscopy methods were applied to study the structural quality of the ZnO layers. Detection of the dopants in the substrates by secondary ion mass spectroscopy made possible the measurement of the thickness of the layers. The obtained root mean square roughness for both the substrates and layers ranged between 0.2 nm and 5 nm, and was dependent on the sample crystallographic orientation and sequence of polishing and annealing procedures. The optimal recipe for the epi-ready substrate preparation was formulated.
Źródło:
Acta Physica Polonica A; 2008, 114, 5; 1361-1368
0587-4246
1898-794X
Pojawia się w:
Acta Physica Polonica A
Dostawca treści:
Biblioteka Nauki
Artykuł
Tytuł:
ZnO Thin Films Deposited on Sapphire by High Vacuum High Temperature Sputtering
Autorzy:
Borysiewicz, M. A.
Pasternak, I.
Dynowska, E.
Jakieła, R.
Kolkovski, V.
Dużyńska, A.
Kamińska, E.
Piotrowska, A.
Powiązania:
https://bibliotekanauki.pl/articles/2048109.pdf
Data publikacji:
2011-05
Wydawca:
Polska Akademia Nauk. Instytut Fizyki PAN
Tematy:
81.05.Dz
81.15.Cd
61.05.cp
68.37.Hk
68.37.Ps
68.49.Sf
78.55.Et
Opis:
ZnO (0001) layers on sapphire (0001) substrates were fabricated by means of high temperature high vacuum magnetron sputtering. The layers were deposited onto a thin MgO buffer and a low temperature ZnO nucleation layer, which is a technology commonly used in MBE ZnO growth. This paper reports on using this technology in the sputtering regime.
Źródło:
Acta Physica Polonica A; 2011, 119, 5; 686-688
0587-4246
1898-794X
Pojawia się w:
Acta Physica Polonica A
Dostawca treści:
Biblioteka Nauki
Artykuł
    Wyświetlanie 1-2 z 2

    Ta witryna wykorzystuje pliki cookies do przechowywania informacji na Twoim komputerze. Pliki cookies stosujemy w celu świadczenia usług na najwyższym poziomie, w tym w sposób dostosowany do indywidualnych potrzeb. Korzystanie z witryny bez zmiany ustawień dotyczących cookies oznacza, że będą one zamieszczane w Twoim komputerze. W każdym momencie możesz dokonać zmiany ustawień dotyczących cookies