Informacja

Drogi użytkowniku, aplikacja do prawidłowego działania wymaga obsługi JavaScript. Proszę włącz obsługę JavaScript w Twojej przeglądarce.

Wyszukujesz frazę "Nickel, H. A." wg kryterium: Wszystkie pola


Wyświetlanie 1-1 z 1
Tytuł:
Structure and Some Physical Properties of Chemically Deposited Nickel Sulfide Thin Films
Autorzy:
Hammad, A.
ElMandouh, Z.
Elmeleegi, H.
Powiązania:
https://bibliotekanauki.pl/articles/1400567.pdf
Data publikacji:
2015-04
Wydawca:
Polska Akademia Nauk. Instytut Fizyki PAN
Tematy:
61.05.cp
68.37.Hk
68.55.jd
68.55.J-
78.20.Ci
78.68.+m
73.50.Lw
73.90.+f
Opis:
$Ni_2S_{2-x}$ thin films with x=0, 0.5, and 1 were prepared by chemical bath deposition technique. Amorphous structure was discovered by XRD for x=1, while α-Ni₇S₆ and NiS phases were discovered for x=0, and x=0.5 respectively. SEM graphs of the studied films have confirmed the XRD results. Optical band gap values increase from 0.845 to 0.912 eV, with increase of the composition x from 0 to 1. Activation energy values increase in the range from x=0 to x=0.5 and does not change for x=1.
Źródło:
Acta Physica Polonica A; 2015, 127, 4; 901-903
0587-4246
1898-794X
Pojawia się w:
Acta Physica Polonica A
Dostawca treści:
Biblioteka Nauki
Artykuł
    Wyświetlanie 1-1 z 1

    Ta witryna wykorzystuje pliki cookies do przechowywania informacji na Twoim komputerze. Pliki cookies stosujemy w celu świadczenia usług na najwyższym poziomie, w tym w sposób dostosowany do indywidualnych potrzeb. Korzystanie z witryny bez zmiany ustawień dotyczących cookies oznacza, że będą one zamieszczane w Twoim komputerze. W każdym momencie możesz dokonać zmiany ustawień dotyczących cookies