Informacja

Drogi użytkowniku, aplikacja do prawidłowego działania wymaga obsługi JavaScript. Proszę włącz obsługę JavaScript w Twojej przeglądarce.

Wyszukujesz frazę "Porowski, S." wg kryterium: Wszystkie pola


Wyświetlanie 1-2 z 2
Tytuł:
Epitaxial Layers Versus Bulk Single Crystals of GaN. Temperature Studies of Lattice Parameters and Energy Gap
Autorzy:
Teisseyre, H.
Perlin, P.
Leszczyński, M.
Suski, T.
Dmowski, L.
Grzegory, I.
Porowski, S.
Jun, J.
Moustakas, T. D.
Powiązania:
https://bibliotekanauki.pl/articles/1873040.pdf
Data publikacji:
1995-02
Wydawca:
Polska Akademia Nauk. Instytut Fizyki PAN
Tematy:
65.70.+y
78.50.Ge
78.66.Fd
Opis:
Gallium nitride epitaxial layer grown by molecular beam epitaxy and bulk crystal grown at high pressure were examined by using X-ray diffraction methods, and by optical absorption at a wide temperature range. The free electron concentration was 6 × 10$\text{}^{17}$ cm$\text{}^{-3}$ for the layer and about 5 × 10$\text{}^{19}$ cm$\text{}^{-3}$ for the bulk crystal. The experiments revealed a different position of the absorption edge and its temperature dependence for these two kinds of samples. The structural examinations proved a significantly higher crystallographic quality of the bulk sample. However, the lattice constants of the samples were nearly the same. This indicated that a rather different electron concentration was responsible for the different optical properties via Burstein-Moss effect.
Źródło:
Acta Physica Polonica A; 1995, 87, 2; 403-406
0587-4246
1898-794X
Pojawia się w:
Acta Physica Polonica A
Dostawca treści:
Biblioteka Nauki
Artykuł
Tytuł:
Polarity Related Problems in Growth of GaN Homoepitaxial Layers
Autorzy:
Leszczyński, M.
Prystawko, P.
Śliwinski, A.
Suski, T.
Litwin-Staszewska, E.
Porowski, S.
Paszkiewicz, R.
Tłaczała, M.
Beaumont, B.
Gibart, P.
Barski, A.
Langer, R.
Knap, W.
Frayssinet, E.
Powiązania:
https://bibliotekanauki.pl/articles/1991873.pdf
Data publikacji:
1998-09
Wydawca:
Polska Akademia Nauk. Instytut Fizyki PAN
Tematy:
61.72.Vv
65.70.+y
Opis:
Homoepitaxial layers of GaN were grown by metalorganic chemical vapour deposition on single crystals obtained by high-pressure, high-temperature technology. For each metalorganic chemical vapour deposition run, four samples were placed, (00.1) and (00.1̲) faces of the Mg-doped insulating and undoped highly-conductive substrates. The layers were examined using X-ray diffraction, photoluminescence and far-infrared reflectivity. It was found that the (00.1̲) easier incorporates donors resulting in higher free-electron concentrations in the layers grown on these sides of the crystals, both, undoped and Mg-doped.
Źródło:
Acta Physica Polonica A; 1998, 94, 3; 427-430
0587-4246
1898-794X
Pojawia się w:
Acta Physica Polonica A
Dostawca treści:
Biblioteka Nauki
Artykuł
    Wyświetlanie 1-2 z 2

    Ta witryna wykorzystuje pliki cookies do przechowywania informacji na Twoim komputerze. Pliki cookies stosujemy w celu świadczenia usług na najwyższym poziomie, w tym w sposób dostosowany do indywidualnych potrzeb. Korzystanie z witryny bez zmiany ustawień dotyczących cookies oznacza, że będą one zamieszczane w Twoim komputerze. W każdym momencie możesz dokonać zmiany ustawień dotyczących cookies