Informacja

Drogi użytkowniku, aplikacja do prawidłowego działania wymaga obsługi JavaScript. Proszę włącz obsługę JavaScript w Twojej przeglądarce.

Wyszukujesz frazę "Leszczynski, M." wg kryterium: Autor


Wyświetlanie 1-4 z 4
Tytuł:
Examples of Microstructure-Related Properties of Gallium Nitride
Autorzy:
Leszczyński, M.
Powiązania:
https://bibliotekanauki.pl/articles/1967996.pdf
Data publikacji:
1997-10
Wydawca:
Polska Akademia Nauk. Instytut Fizyki PAN
Tematy:
61.72.Ji
61.72.Vv
Opis:
The work provides a brief overview and the latest experimental results concerning the microstructure of gallium nitride. Because of the importance for the optoelectronic and electronic technologies, mainly problems related to the lattice mismatch between substrates and GaN layers are discussed. Three main substrates, sapphire, silicon carbide and high-pressure-grown bulk GaN crystals, are compared. Mosaicity, thermal strains and surface roughnesses of the GaN layers grown on those substrates are reported. The application of high-pressure technologies makes it possible to use temperatures higher by a few hundred degrees with respect to the atmospheric pressure for which the decomposition of gallium nitride occurs at temperatures below 1000°C. Annealing at pressures higher than 10 kbar and temperatures up to 1550° C causes modifications of the microstructure of GaN heteroepitaxial layers on sapphire. For example, their mosaicity decreases as observed by narrowing of the X-ray diffraction peaks. The implanted layers recover upon high-pressure annealing and give a strong dopant-related luminescence.
Źródło:
Acta Physica Polonica A; 1997, 92, 4; 653-661
0587-4246
1898-794X
Pojawia się w:
Acta Physica Polonica A
Dostawca treści:
Biblioteka Nauki
Artykuł
Tytuł:
Lattice Constant of Doped Semiconductor
Autorzy:
Leszczyński, M.
Litwin-Staszewska, E.
Suski, T.
Bąk-Misiuk, J.
Domagała, J.
Powiązania:
https://bibliotekanauki.pl/articles/1933910.pdf
Data publikacji:
1995-11
Wydawca:
Polska Akademia Nauk. Instytut Fizyki PAN
Tematy:
61.72.Vv
65.70.+y
Opis:
The paper shows an influence of doping on lattice constant of a semiconductor. Three effects are discussed: (i) "size" effect caused by a different ionic radii of dopant and host atoms, (ii) lattice expansion by free electrons proportionally to the deformation potential of the conduction-band minimum occupied by this charge, (iii) different thermal expansion of the undoped and doped samples. The experiments have been performed by using the high resolution X-ray diffraction at 77-770 K on AlGaAs:Te and GaAs:Si.
Źródło:
Acta Physica Polonica A; 1995, 88, 5; 837-840
0587-4246
1898-794X
Pojawia się w:
Acta Physica Polonica A
Dostawca treści:
Biblioteka Nauki
Artykuł
Tytuł:
Thermal Expansion of GaN Bulk Crystals and Homoepitaxial Layers
Autorzy:
Leszczyński, M.
Teisseyre, H.
Suski, T.
Grzegory, I.
Boćkowski, M.
Jun, J.
Pałosz, B.
Porowski, S.
Pakuła, K.
Baranowski, J. M.
Barski, A.
Powiązania:
https://bibliotekanauki.pl/articles/1952040.pdf
Data publikacji:
1996-11
Wydawca:
Polska Akademia Nauk. Instytut Fizyki PAN
Tematy:
61.72.Ji
61.72.Vv
Opis:
Thermal expansion of gallium nitride was measured using high resolution X-ray diffraction. The following samples were examined: (i) single monocrystals grown at pressure of about 15 kbar, (ii) homoepitaxial layers. The main factor influencing both, the lattice parameters and the thermal expansion coefficient, are free electrons related to the nitrogen vacancies. The origin of an increase in the lattice constants by free electrons is discussed in terms of the deformation potential of the conduction-band minimum. An increase of the thermal expansion by free electrons is explained by a decrease of elastic constants.
Źródło:
Acta Physica Polonica A; 1996, 90, 5; 887-890
0587-4246
1898-794X
Pojawia się w:
Acta Physica Polonica A
Dostawca treści:
Biblioteka Nauki
Artykuł
Tytuł:
Polarity Related Problems in Growth of GaN Homoepitaxial Layers
Autorzy:
Leszczyński, M.
Prystawko, P.
Śliwinski, A.
Suski, T.
Litwin-Staszewska, E.
Porowski, S.
Paszkiewicz, R.
Tłaczała, M.
Beaumont, B.
Gibart, P.
Barski, A.
Langer, R.
Knap, W.
Frayssinet, E.
Powiązania:
https://bibliotekanauki.pl/articles/1991873.pdf
Data publikacji:
1998-09
Wydawca:
Polska Akademia Nauk. Instytut Fizyki PAN
Tematy:
61.72.Vv
65.70.+y
Opis:
Homoepitaxial layers of GaN were grown by metalorganic chemical vapour deposition on single crystals obtained by high-pressure, high-temperature technology. For each metalorganic chemical vapour deposition run, four samples were placed, (00.1) and (00.1̲) faces of the Mg-doped insulating and undoped highly-conductive substrates. The layers were examined using X-ray diffraction, photoluminescence and far-infrared reflectivity. It was found that the (00.1̲) easier incorporates donors resulting in higher free-electron concentrations in the layers grown on these sides of the crystals, both, undoped and Mg-doped.
Źródło:
Acta Physica Polonica A; 1998, 94, 3; 427-430
0587-4246
1898-794X
Pojawia się w:
Acta Physica Polonica A
Dostawca treści:
Biblioteka Nauki
Artykuł
    Wyświetlanie 1-4 z 4

    Ta witryna wykorzystuje pliki cookies do przechowywania informacji na Twoim komputerze. Pliki cookies stosujemy w celu świadczenia usług na najwyższym poziomie, w tym w sposób dostosowany do indywidualnych potrzeb. Korzystanie z witryny bez zmiany ustawień dotyczących cookies oznacza, że będą one zamieszczane w Twoim komputerze. W każdym momencie możesz dokonać zmiany ustawień dotyczących cookies