Informacja

Drogi użytkowniku, aplikacja do prawidłowego działania wymaga obsługi JavaScript. Proszę włącz obsługę JavaScript w Twojej przeglądarce.

Wyszukujesz frazę "Popov, V. A." wg kryterium: Autor


Wyświetlanie 1-1 z 1
Tytuł:
X-ray Synchrotron Studies of Nanostructure Formation in High Temperature - Pressure Treated Silicon Implanted with Hydrogen
Autorzy:
Wieteska, K.
Wierzchowski, W.
Graeff, W.
Misiuk, A.
Barcz, A.
Bryja, L.
Popov, V. P.
Powiązania:
https://bibliotekanauki.pl/articles/2035493.pdf
Data publikacji:
2002-08
Wydawca:
Polska Akademia Nauk. Instytut Fizyki PAN
Tematy:
68.55.-a
61.46.+w
Opis:
The effects of various high temperature-pressure treatments in Czochralski grown silicon (Cz-Si) implanted with 130 keV hydrogen to the dose of 4times10$\text{}^{16}$ cm$\text{}^{-2}$ were investigated using synchrotron X-ray topographic methods and rocking curve measurements. The high temperature- pressure processes included 10 h annealing at 450°C, 650°C, and 725°C at argon pressure 12 kbar and 1 bar. The topographic investigations were performed with projection and section methods in back-reflection and transmission geometry. It was found that annealing resulted in significantly reduced strain induced by the implantation, which became undetectable with presently used very sensitive synchrotron arrangement. A significant difference between the Cz-Si:H samples annealed at high and atmospheric pressure was observed. In the first case a distinct topographic contrast attributed to the formation of comparatively larger inclusions was observed. This effect was different at different temperatures. The samples annealed at enhanced pressure were more uniform and often produced significant interference effects.
Źródło:
Acta Physica Polonica A; 2002, 102, 2; 239-244
0587-4246
1898-794X
Pojawia się w:
Acta Physica Polonica A
Dostawca treści:
Biblioteka Nauki
Artykuł
    Wyświetlanie 1-1 z 1

    Ta witryna wykorzystuje pliki cookies do przechowywania informacji na Twoim komputerze. Pliki cookies stosujemy w celu świadczenia usług na najwyższym poziomie, w tym w sposób dostosowany do indywidualnych potrzeb. Korzystanie z witryny bez zmiany ustawień dotyczących cookies oznacza, że będą one zamieszczane w Twoim komputerze. W każdym momencie możesz dokonać zmiany ustawień dotyczących cookies