Informacja

Drogi użytkowniku, aplikacja do prawidłowego działania wymaga obsługi JavaScript. Proszę włącz obsługę JavaScript w Twojej przeglądarce.

Wyszukujesz frazę "Dz 15" wg kryterium: Temat


Wyświetlanie 1-4 z 4
Tytuł:
Epitaxial ZnO Films Grown at Low Temperature for Novel Electronic Application
Autorzy:
Wachnicki, Ł.
Dużyńska, A.
Domagala, J.
Witkowski, B.
Krajewski, T.
Przeździecka, E.
Guziewicz, M.
Wierzbicka, A.
Kopalko, K.
Figge, S.
Hommel, D.
Godlewski, M.
Guziewicz, E.
Powiązania:
https://bibliotekanauki.pl/articles/1492723.pdf
Data publikacji:
2011-12
Wydawca:
Polska Akademia Nauk. Instytut Fizyki PAN
Tematy:
81.15.Aa
61.05.cp
81.05.Dz
Opis:
Monocrystalline films of zinc oxide were grown at 300C by atomic layer deposition. ZnO layers were grown on various substrates like ZnO bulk crystal, GaN, SiC and $Al_2O_3$. Electrical properties of the films depend on structural quality. Structural quality, surface morphology and optical properties of ZnO films were characterized using X-ray diffraction, scanning electron microscopy, and photoluminescence, respectively. High resolution X-ray diffraction spectra show that the rocking curve FWHM of the symmetrical 00.2 reflection equals to 0.058° and 0.009° for ZnO deposited on a gallium nitride template and a zinc oxide substrate, respectively. In low temperature photoluminescence sharp excitonic lines in the band-edge region with a FWHM equal to 4 meV, 5 meV and 6 meV, for zinc oxide deposited on gallium nitride, zinc oxide and sapphire substrate, respectively.
Źródło:
Acta Physica Polonica A; 2011, 120, 6A; A-007-A-010
0587-4246
1898-794X
Pojawia się w:
Acta Physica Polonica A
Dostawca treści:
Biblioteka Nauki
Artykuł
Tytuł:
High-Resolution X-Ray Diffraction Studies on MBE-Grown p-ZnTe/n-CdTe Heterojunctions for Solar Cell Applications
Autorzy:
Wichrowska, K.
Domagala, J.
Wosinski, T.
Chusnutdinow, S.
Karczewski, G.
Powiązania:
https://bibliotekanauki.pl/articles/1375736.pdf
Data publikacji:
2014-11
Wydawca:
Polska Akademia Nauk. Instytut Fizyki PAN
Tematy:
61.05.cp
81.05.Dz
81.15.Hi
88.40.jm
Opis:
High-resolution X-ray diffractometer was used to study structural quality, lattice parameters and misfit strain in p-ZnTe/n-CdTe heterojunctions grown by the molecular-beam epitaxy technique on two different (001)-oriented substrates of GaAs and CdTe. The X-ray diffractometer results indicate that the CdTe layers, grown on lattice mismatched GaAs substrate, are partially relaxed, by the formation of misfit dislocations at the interface, and display residual vertical strain of the order of $10^{-4}$. The presence of threading dislocations in the layers effectively limits the efficiency of solar energy conversion in the investigated heterojunctions. Homoepitaxially grown CdTe layers, of much better structural quality, display unexpected compressive strain in the layers and the relaxed lattice parameter larger than that of the substrate. Possible reasons for the formation of that unusual strain are discussed.
Źródło:
Acta Physica Polonica A; 2014, 126, 5; 1083-1086
0587-4246
1898-794X
Pojawia się w:
Acta Physica Polonica A
Dostawca treści:
Biblioteka Nauki
Artykuł
Tytuł:
Multilayered ZnO Films of Improved Quality Deposited by Magnetron Sputtering
Autorzy:
Ievtushenko, A.
Karpyna, V.
Lashkarev, G.
Lazorenko, V.
Baturin, V.
Karpenko, A.
Lunika, M.
Dan'ko, A.
Powiązania:
https://bibliotekanauki.pl/articles/1811931.pdf
Data publikacji:
2008-11
Wydawca:
Polska Akademia Nauk. Instytut Fizyki PAN
Tematy:
81.05.Dz
81.15.Cd
61.05.cp
68.55.jm
Opis:
Multilayered ZnO films were deposited by rf magnetron sputtering on silicon and sapphire substrates. The aim of this work is to improve structural quality of ZnO thin films grown on just listed substrates. Presented X-ray diffraction data testify to remarkable relaxation of compressive stress in two- and three-layered ZnO films in comparison with single-layer one.
Źródło:
Acta Physica Polonica A; 2008, 114, 5; 1131-1137
0587-4246
1898-794X
Pojawia się w:
Acta Physica Polonica A
Dostawca treści:
Biblioteka Nauki
Artykuł
Tytuł:
ZnO Thin Films Deposited on Sapphire by High Vacuum High Temperature Sputtering
Autorzy:
Borysiewicz, M. A.
Pasternak, I.
Dynowska, E.
Jakieła, R.
Kolkovski, V.
Dużyńska, A.
Kamińska, E.
Piotrowska, A.
Powiązania:
https://bibliotekanauki.pl/articles/2048109.pdf
Data publikacji:
2011-05
Wydawca:
Polska Akademia Nauk. Instytut Fizyki PAN
Tematy:
81.05.Dz
81.15.Cd
61.05.cp
68.37.Hk
68.37.Ps
68.49.Sf
78.55.Et
Opis:
ZnO (0001) layers on sapphire (0001) substrates were fabricated by means of high temperature high vacuum magnetron sputtering. The layers were deposited onto a thin MgO buffer and a low temperature ZnO nucleation layer, which is a technology commonly used in MBE ZnO growth. This paper reports on using this technology in the sputtering regime.
Źródło:
Acta Physica Polonica A; 2011, 119, 5; 686-688
0587-4246
1898-794X
Pojawia się w:
Acta Physica Polonica A
Dostawca treści:
Biblioteka Nauki
Artykuł
    Wyświetlanie 1-4 z 4

    Ta witryna wykorzystuje pliki cookies do przechowywania informacji na Twoim komputerze. Pliki cookies stosujemy w celu świadczenia usług na najwyższym poziomie, w tym w sposób dostosowany do indywidualnych potrzeb. Korzystanie z witryny bez zmiany ustawień dotyczących cookies oznacza, że będą one zamieszczane w Twoim komputerze. W każdym momencie możesz dokonać zmiany ustawień dotyczących cookies