Informacja

Drogi użytkowniku, aplikacja do prawidłowego działania wymaga obsługi JavaScript. Proszę włącz obsługę JavaScript w Twojej przeglądarce.

Wyszukujesz frazę "Öztürk, S." wg kryterium: Autor


Wyświetlanie 1-2 z 2
Tytuł:
Structural and Optical Characterization of $TiO_2$ Thin Films Prepared by Sol-Gel Process
Autorzy:
Karabay, I.
Aydın Yüksel, S.
Ongül, F.
Öztürk, S.
Aslı, M.
Powiązania:
https://bibliotekanauki.pl/articles/1491461.pdf
Data publikacji:
2012-01
Wydawca:
Polska Akademia Nauk. Instytut Fizyki PAN
Tematy:
78.20.-e
81.20.Fw
61.05.cp
Opis:
Titanium dioxide $(TiO_2)$ thin films were prepared by spin coating technique of sol precursor on Corning 7059 glass substrates. Spectral transmittances of as deposited and annealed samples were measured in the range of 250 to 1100 nm. Optical band gaps were calculated from the Tauc plots and was found to be about 3.78 eV for the annealed samples at 500°C. X-ray diffraction patterns were performed with as deposited and annealed samples. By annealing the samples at 500C in various annealing times, the structure has changed from amorphous to the anatase crystalline state. Variations of the band gap energy values of $TiO_2$ films with cobalt doping were also investigated. Cobalt doping decreased the band gap value of $TiO_2$ films down to 3.25 eV. X-ray diffraction patterns were also given for the doped samples.
Źródło:
Acta Physica Polonica A; 2012, 121, 1; 265-267
0587-4246
1898-794X
Pojawia się w:
Acta Physica Polonica A
Dostawca treści:
Biblioteka Nauki
Artykuł
Tytuł:
Effects of Thermal Annealing and Film Thickness on the Structural and Morphological Properties of Titanium Dioxide Films
Autorzy:
Çörekçí, S.
Kızılkaya, K.
Asar, T.
Öztürk, M.
Çakmak, M.
Özçelík, S.
Powiązania:
https://bibliotekanauki.pl/articles/1491428.pdf
Data publikacji:
2012-01
Wydawca:
Polska Akademia Nauk. Instytut Fizyki PAN
Tematy:
68.55.J-
61.05.cp
68.37.Ps
Opis:
Titanium dioxide $(TiO_2)$ thin films having different thicknesses of 220, 260, and 300 nm were deposited onto well-cleaned n-type silicon substrates by reactive DC magnetron sputtering and annealed in the range of 200-1000C in steps of 200°C. The effects of thermal annealing and thickness variation on the crystalline quality and surface morphology of the films were investigated by X-ray diffraction and atomic force microscopy measurements. It was found that the film quality and morphology depend on the annealing temperature. $TiO_2$ films exhibit a grain-like surface morphology. The root-mean-square roughness and grain size on the surface increase as a result of increasing film thickness.
Źródło:
Acta Physica Polonica A; 2012, 121, 1; 247-248
0587-4246
1898-794X
Pojawia się w:
Acta Physica Polonica A
Dostawca treści:
Biblioteka Nauki
Artykuł
    Wyświetlanie 1-2 z 2

    Ta witryna wykorzystuje pliki cookies do przechowywania informacji na Twoim komputerze. Pliki cookies stosujemy w celu świadczenia usług na najwyższym poziomie, w tym w sposób dostosowany do indywidualnych potrzeb. Korzystanie z witryny bez zmiany ustawień dotyczących cookies oznacza, że będą one zamieszczane w Twoim komputerze. W każdym momencie możesz dokonać zmiany ustawień dotyczących cookies