Informacja

Drogi użytkowniku, aplikacja do prawidłowego działania wymaga obsługi JavaScript. Proszę włącz obsługę JavaScript w Twojej przeglądarce.

Wyszukujesz frazę "Chung, S." wg kryterium: Autor


Wyświetlanie 1-1 z 1
Tytuł:
DLC Coatings by $PI^{3}D:$ Low-Voltage žersus High-Voltage Biasing
Autorzy:
Ryoo, H.
Nikiforov, S.
Rim, G.
Shenderey, S.
Oh, H.
Chung, S.
Powiązania:
https://bibliotekanauki.pl/articles/1807961.pdf
Data publikacji:
2009-06
Wydawca:
Polska Akademia Nauk. Instytut Fizyki PAN
Tematy:
52.77.Dq
68.35.Gy
68.55.-a
78.30.-j
Opis:
Diamond-like carbon (DLC), in particular hydrogenated amorphous carbon (a-C:H) films have been formed on various conductive and dielectric materials by plasma immersion ion implantation and deposition $(PI^{3}D)$ processing. Effect of pulse voltage and other process parameters on the film properties was investigated. It was found that for conductive substrates, a low-voltage ( ≈1 kV), high repetition rate pulsing provides better overall film performance comparing to that obtained by applying higher voltages, which is also favourable for conformal treatment of 3D workpieces. However, short 1-2 μs, high-voltage 5-20 kV pulses are required for dielectric workpieces several millimeter thick. Good film adhesion was achieved by forming a Si-containing buffer layer using hexamethyldisiloxane (HMDSO) as a precursor and a low-voltage pulsing. Roughness and wettability of DLC coatings was found to be controlled by varying the bias specs and sample temperature. Very smooth films with average roughness less than 1 Å were prepared at optimised process parameters.
Źródło:
Acta Physica Polonica A; 2009, 115, 6; 1146-1148
0587-4246
1898-794X
Pojawia się w:
Acta Physica Polonica A
Dostawca treści:
Biblioteka Nauki
Artykuł
    Wyświetlanie 1-1 z 1

    Ta witryna wykorzystuje pliki cookies do przechowywania informacji na Twoim komputerze. Pliki cookies stosujemy w celu świadczenia usług na najwyższym poziomie, w tym w sposób dostosowany do indywidualnych potrzeb. Korzystanie z witryny bez zmiany ustawień dotyczących cookies oznacza, że będą one zamieszczane w Twoim komputerze. W każdym momencie możesz dokonać zmiany ustawień dotyczących cookies