Informacja

Drogi użytkowniku, aplikacja do prawidłowego działania wymaga obsługi JavaScript. Proszę włącz obsługę JavaScript w Twojej przeglądarce.

English (EN)·Polski (PL)·Yкраїнський (UK)
Przejdź do strony domowej biblioteki Centralna Biblioteka Wojskowa Link otwiera się w nowym oknie Logo biblioteki Prolib Integro - strona głównaCentralna Biblioteka Wojskowa

Wyszukujesz frazę "Kruszka, K." wg kryterium: Autor

  Lista filtrów
Wyrównaj
    Wyświetlanie 1-4 z 4
    Tytuł:
    Planar Optical Waveguides for Application in Optoelectronic Gas Sensors
    Autorzy:
    Golaszewska, K.
    Kamińska, E.
    Pustelny, T.
    Struk, P.
    Piotrowski, T.
    Piotrowska, A.
    Ekielski, M.
    Kruszka, R.
    Wzorek, M.
    Borysiewicz, M.
    Pasternak, I.
    Gut, K.
    Powiązania:
    https://bibliotekanauki.pl/articles/1811559.pdf
    Data publikacji:
    2008-12
    Wydawca:
    Polska Akademia Nauk. Instytut Fizyki PAN
    Tematy:
    42.82.Et
    07.07.Df
    42.79.Pw
    81.15.-z
    Opis:
    In the paper, the results of technological investigations on planar optical waveguides based on high band gap oxide semiconductors were presented. Investigations concerned the technologies of depositing very thin layers of: zinc oxide ZnO, titanium dioxide $TiO_2$ and tin dioxide $SnO_2$ on substrates of quartz glass plates. There were investigated both morphological structures of the produced layers and their optical properties. The paper also presents investigations on the technology of input-output light systems in the Bragg grating structures.
    Źródło:
    Acta Physica Polonica A; 2008, 114, 6A; A-223-A-230
    0587-4246
    1898-794X
    Pojawia się w:
    Acta Physica Polonica A
    Dostawca treści:
    Biblioteka Nauki
    Artykuł
    Tytuł:
    Capability of Semiconducting NiO Films in Gamma Radiation Dosimetry
    Autorzy:
    Guziewicz, M.
    Jung, W.
    Grochowski, J.
    Borysiewicz, M.
    Golaszewska, K.
    Kruszka, R.
    Baranska, A.
    Piotrowska, A.
    Witkowski, B.
    Domagala, J.
    Gryzinski, M.
    Tyminska, K.
    Stonert, A.
    Powiązania:
    https://bibliotekanauki.pl/articles/1492706.pdf
    Data publikacji:
    2011-12
    Wydawca:
    Polska Akademia Nauk. Instytut Fizyki PAN
    Tematy:
    73.61.Jc
    29.40.-n
    87.53.Bn
    Opis:
    Electrical properties of RF magnetron sputtered p-NiO films were characterized after fabrication and after gamma irradiations using $\text{}^{137}Cs$ and $\text{}^{60}Co$ sources. Electrical parameters are obtained from the Hall measurements, impedance spectroscopy and C-V measurement of n-Si/p-NiO junction diodes. The results show that resistivity of the NiO film is gradually increased following after sequential irradiation processes because of the decrease in holes' concentration. Hole concentration of a NiO film decreases from the original value of $4.36 \times 10^{16} cm^{-3}$ to $2.86 \times 10^{16} cm^{-3}$ after $\text{}^{137}Cs γ$ irradiation with doses of 10 Gy. In the case of γ irradiation from $\text{}^{60}Co$ source, hole concentration of the film decreases from $6.3 \times 10^{16}//cm^3$ to $4.1 \times 10^{16}//cm^3$ and to $2.9 \times 10^{16}//cm^3$ after successive expositions with a dose of 20 Gy.
    Źródło:
    Acta Physica Polonica A; 2011, 120, 6A; A-069-A-072
    0587-4246
    1898-794X
    Pojawia się w:
    Acta Physica Polonica A
    Dostawca treści:
    Biblioteka Nauki
    Artykuł
    Tytuł:
    Two-Probe Measurements of Electron Transport in GaN:Si/(Ga,Mn)N/GaN:Si Spin Filter Structures
    Autorzy:
    Kalbarczyk, K.
    Foltyn, M.
    Grzybowski, M.
    Stefanowicz, W.
    Adhikari, R.
    Li, Tian
    Kruszka, R.
    Kamińska, E.
    Piotrowska, A.
    Bonanni, A.
    Dietl, T.
    Sawicki, M.
    Powiązania:
    https://bibliotekanauki.pl/articles/1398574.pdf
    Data publikacji:
    2016-11
    Wydawca:
    Polska Akademia Nauk. Instytut Fizyki PAN
    Tematy:
    72.25.Dc
    73.40.Cg
    73.43.Qt
    78.55.Cr
    Opis:
    Results of two-probe magnetoresistance studies in GaN:Si/(Ga,Mn)N/GaN:Si prospective spin filter structures are reported. It is postulated that transport characteristics are strongly influenced by highly conductive threading dislocations and that shrinking of the device size partially mitigates the issue. Simultaneously, maxima at ≈1500 Oe on overall weak, up to 2%, negative magnetoresistance are seen at low temperature, whose origin has been tentatively assigned to effects taking place at the contacts areas.
    Źródło:
    Acta Physica Polonica A; 2016, 130, 5; 1196-1198
    0587-4246
    1898-794X
    Pojawia się w:
    Acta Physica Polonica A
    Dostawca treści:
    Biblioteka Nauki
    Artykuł
    Tytuł:
    Technology of Ultrathin NbN and NbTiN Films for Superconducting Photodetectors
    Autorzy:
    Guziewicz, M.
    Slysz, W.
    Borysiewicz, M.
    Kruszka, R.
    Sidor, Z.
    Juchniewicz, M.
    Golaszewska, K.
    Domagala, J.
    Rzodkiewicz, W.
    Ratajczak, J.
    Bar, J.
    Wegrzecki, M.
    Sobolewski, R.
    Powiązania:
    https://bibliotekanauki.pl/articles/1492719.pdf
    Data publikacji:
    2011-12
    Wydawca:
    Polska Akademia Nauk. Instytut Fizyki PAN
    Tematy:
    74.62.Bf
    74.78.-w
    81.15.Cd
    81.15.Jj
    Opis:
    We report fabrication and characterization of ultrathin NbN and NbTiN films designed for superconducting photodetectors. Our NbN and NbTiN films were deposited on $Al_2O_3$ and Si single-crystal wafers by a high-temperature, reactive magnetron sputtering method and, subsequently, annealed at 1000°C. The best, 18 nm thick NbN films deposited on sapphire exhibited the critical temperature of 15.0 K and the critical current density as high as ≈ 8 × $10^6$ A/$cm^2$ at 4.8 K.
    Źródło:
    Acta Physica Polonica A; 2011, 120, 6A; A-076-A-079
    0587-4246
    1898-794X
    Pojawia się w:
    Acta Physica Polonica A
    Dostawca treści:
    Biblioteka Nauki
    Artykuł
      Wyświetlanie 1-4 z 4

      Ta witryna wykorzystuje pliki cookies do przechowywania informacji na Twoim komputerze. Pliki cookies stosujemy w celu świadczenia usług na najwyższym poziomie, w tym w sposób dostosowany do indywidualnych potrzeb. Korzystanie z witryny bez zmiany ustawień dotyczących cookies oznacza, że będą one zamieszczane w Twoim komputerze. W każdym momencie możesz dokonać zmiany ustawień dotyczących cookies