Informacja

Drogi użytkowniku, aplikacja do prawidłowego działania wymaga obsługi JavaScript. Proszę włącz obsługę JavaScript w Twojej przeglądarce.

English (EN)·Polski (PL)·Yкраїнський (UK)
Przejdź do strony domowej biblioteki Centralna Biblioteka Wojskowa Link otwiera się w nowym oknie Logo biblioteki Prolib Integro - strona głównaCentralna Biblioteka Wojskowa

Wyszukujesz frazę "Atomic Layer Deposition" wg kryterium: Temat

  Lista filtrów
Wyrównaj
    Wyświetlanie 1-3 z 3
    Tytuł:
    The optical parameters of TiO2 antireflection coating prepared by atomic layer deposition method for photovoltaic application
    Autorzy:
    Szindler, Marek
    Szindler, Magdalena M.
    Powiązania:
    https://bibliotekanauki.pl/articles/1835965.pdf
    Data publikacji:
    2020
    Wydawca:
    Politechnika Wrocławska. Oficyna Wydawnicza Politechniki Wrocławskiej
    Tematy:
    thin film
    atomic layer deposition
    titanium dioxide
    Opis:
    Titanium dioxide thin films have been deposited on silicon wafers substrates by an atomic layer deposition (ALD) method. There optical parameters were investigated by spectroscopic ellipsometry and UV/VIS spectroscopy. A material with a refractive index of 2.41 was obtained. Additionally, in a wide spectral range it was possible to reduce the reflection from the silicon surface below 5%. The Raman spectroscopy method was used for structural characterization of anatase TiO2 thin films. Their uniformity and chemical composition are confirmed by a scanning electron microscope (SEM) energy dispersive spectrometer (EDS).
    Źródło:
    Optica Applicata; 2020, 50, 4; 663-670
    0078-5466
    1899-7015
    Pojawia się w:
    Optica Applicata
    Dostawca treści:
    Biblioteka Nauki
    Artykuł
    Tytuł:
    The impact of atomic layer deposition technological parameters on optical properties and morphology of Al2O3 thin films
    Autorzy:
    Dobrzanski, L. A.
    Szindler, M.
    Hajduk, B.
    Kotowicz, S.
    Powiązania:
    https://bibliotekanauki.pl/articles/173801.pdf
    Data publikacji:
    2015
    Wydawca:
    Politechnika Wrocławska. Oficyna Wydawnicza Politechniki Wrocławskiej
    Tematy:
    thin film
    aluminum oxide
    atomic layer deposition
    Opis:
    This paper presents some results of investigations on aluminum oxide Al2O3 thin films prepared by the atomic layer deposition method on polished monocrystalline silicon. It has been described how the technological parameters of the deposition process, like the number of cycles and substrate temperature, influenced the optical properties and morphology of prepared thin films. Their physical and optical properties like thickness, uniformity and refractive index have been investigated with spectroscopic ellipsometry, atomic force microscopy and UV/vis optical spectroscopy.
    Źródło:
    Optica Applicata; 2015, 45, 4; 573-583
    0078-5466
    1899-7015
    Pojawia się w:
    Optica Applicata
    Dostawca treści:
    Biblioteka Nauki
    Artykuł
    Tytuł:
    Properties of thin films of high-k oxides grown by atomic layer deposition at low temperature for electronic applications
    Autorzy:
    Gieraltowska, S
    Wachnicki, Ł
    Witkowski, B S
    Godlewski, M
    Guziewicz, E
    Powiązania:
    https://bibliotekanauki.pl/articles/173591.pdf
    Data publikacji:
    2013
    Wydawca:
    Politechnika Wrocławska. Oficyna Wydawnicza Politechniki Wrocławskiej
    Tematy:
    high-k oxides
    composite layers
    atomic layer deposition
    transparent electronics
    zinc oxide
    Opis:
    Thin films of high-k oxides are presently used in semiconductor industry as gate dielectrics. In this work, we present the comparison of structural, morphological and electrical properties of binary and composite layers of high-k oxides that include hafnium dioxide (HfO2), aluminum oxide (Al2O3) and zirconium dioxide (ZrO2). We deposit thin films of high-k oxides using atomic layer deposition (ALD) and low growth temperature (60–240 °C). Optimal technological growth parameters were selected for the maximum smoothness, amorphous microstructure, low leakage current, high dielectric strength of dielectric thin films, required for gate applications. High quality of the layers is confirmed by their introduction to test electronic structures, such as thin film capacitors, transparent thin film capacitors and transparent thin film transistors. In the latter structure we use semiconductor layers of zinc oxide (ZnO) and insulating layers of high-k oxide grown by the ALD technique at low temperature (no more than 100 °C).
    Źródło:
    Optica Applicata; 2013, 43, 1; 17-25
    0078-5466
    1899-7015
    Pojawia się w:
    Optica Applicata
    Dostawca treści:
    Biblioteka Nauki
    Artykuł
      Wyświetlanie 1-3 z 3

      Ta witryna wykorzystuje pliki cookies do przechowywania informacji na Twoim komputerze. Pliki cookies stosujemy w celu świadczenia usług na najwyższym poziomie, w tym w sposób dostosowany do indywidualnych potrzeb. Korzystanie z witryny bez zmiany ustawień dotyczących cookies oznacza, że będą one zamieszczane w Twoim komputerze. W każdym momencie możesz dokonać zmiany ustawień dotyczących cookies