Informacja

Drogi użytkowniku, aplikacja do prawidłowego działania wymaga obsługi JavaScript. Proszę włącz obsługę JavaScript w Twojej przeglądarce.

Wyszukujesz frazę "Yuan, H. Y." wg kryterium: Autor


Wyświetlanie 1-1 z 1
Tytuł:
Mitigation scratch on fused silica optics using CO2 laser
Autorzy:
Liu, C.-M.
Yan, Z.-H.
Yang, L.
Jiang, Y.
Zu, X.-T.
Wang, H.-J.
Liao, W.
Yuan, X.-D.
Zheng, W.-G.
Powiązania:
https://bibliotekanauki.pl/articles/174978.pdf
Data publikacji:
2016
Wydawca:
Politechnika Wrocławska. Oficyna Wydawnicza Politechniki Wrocławskiej
Tematy:
mitigation
scratch
fused silica
CO2 laser
Opis:
The scratch on a fused silica surface was treated as a chain of connected damage sites and mitigated one after another using CO2 laser irradiation. The optical microscopy image shows that a scratch with the width of about 30 μm and length of several millimeters can be completely mitigated without the formation of debris and bubbles. The mitigated scratch can survive under raster scan laser irradiation with the fluency increased up to 11.0J/cm2 at 3ns and 351nm. On the contrary, the substrate without CO2 laser mitigation is seriously damaged under this irradiation. The light modulation induced by mitigation is much smaller when the scratch is mitigated before being damaged. The light modulation is about 2 when the distance to the mitigated sample is larger than 20cm. The birefringence induced by residual stress in the mitigated scratch is measured. The retardance of the mitigated scratch before being damaged is not visible. Therefore, residual stress in this mitigated scratch before being damaged should be not a critical potential risk in laser damage.
Źródło:
Optica Applicata; 2016, 46, 3; 387-397
0078-5466
1899-7015
Pojawia się w:
Optica Applicata
Dostawca treści:
Biblioteka Nauki
Artykuł
    Wyświetlanie 1-1 z 1

    Ta witryna wykorzystuje pliki cookies do przechowywania informacji na Twoim komputerze. Pliki cookies stosujemy w celu świadczenia usług na najwyższym poziomie, w tym w sposób dostosowany do indywidualnych potrzeb. Korzystanie z witryny bez zmiany ustawień dotyczących cookies oznacza, że będą one zamieszczane w Twoim komputerze. W każdym momencie możesz dokonać zmiany ustawień dotyczących cookies