- Tytuł:
-
Yield of winter durum wheat (Triticum durum Desf.) lines in condition of different protection level of plants
Plonowanie ozimych linii pszenicy twardej (Triticum durum Desf.) w warunkach zróżnicowanego poziomu ochrony roślin - Autorzy:
-
Rachon, L.
Szumilo, G. - Powiązania:
- https://bibliotekanauki.pl/articles/46530.pdf
- Data publikacji:
- 2009
- Wydawca:
- Politechnika Bydgoska im. Jana i Jędrzeja Śniadeckich. Wydawnictwo PB
- Tematy:
-
yield
winter wheat
durum wheat
Triticum durum
wheat line
plant protection
different level
protection level
yield structure
yield element
breeding line
plant breeding
chemical protection
grain yield - Opis:
-
The paper deals with evaluating the yield and yield structure elements of winter durum wheat lines (Triticum durum Desf.) under conditions of varied levels of chemical protection. The field experiments were carried out in 2006-2008 on the Experimental Farm Felin, University of Life Sciences, Lublin. Examinations involved 3 lines of durum wheat (STH 716, 717, 725) achieved from Plant Breeding Station in Strzelce as well as common wheat Tonacja cv. for comparison. The second factor consisted of 2 levels of chemical protection: I – minimum (seed dressing Oxafun T 75 DS/WS and herbicide Chwastox Trio 540 SL); II – complex (seed dressing, herbicides Puma Uniwersal 069 EW and Chwastox Trio 540 SL, fungicide Alert 375 SC, growth regulator Stabilan 750 SL and insecticide Decis 2,5 EC). Obtained results allowed for concluding that when comparing with minimum protection, the increase in wheat grain yields by 1.08 t·ha-1 was recorded on complex-protected treatments, regardless of compared lines and varieties. Lower yield of durum wheat as compared to common wheat resulted first of all from lower spike density per area unit. A positive influence of chemical protection on spike number and grain number per spike was observed. Durum wheat lines were characterized by high grain vitreousness.
W pracy dokonano oceny plonowania i elementów struktury plonu 3 linii ozimych pszenicy twardej Triticum durum Desf. w warunkach zróżnicowanego poziomu ochrony chemicznej. Badania polowe przeprowadzone w latach 2006-2008 objęły linie STH 716, 717 i 725, które otrzymano w Stacji Hodowli Roślin w Strzelcach i odmianę pszenicy zwyczajnej Tonacja. Stosowano 2 poziomy ochrony chemicznej: I – ochrona minimalna (zaprawa nasienna Oxafun T 75 DS/WS i herbicyd Chwastox Trio 540 SL), II – ochrona kompleksowa (zaprawa nasienna, herbicydy Puma Uniwersal 069 EW i Chwastox Trio 540 SL, fungicyd Alert 375 SC, regulator wzrostu Stabilan 750 SL i insektycyd Decis 2,5 EC). W porównaniu z ochroną minimalną na obiektach chronionych kompleksowo otrzymano wzrost plonu ziarna pszenicy o 1,08 t∙ha-1, niezależnie od porównywanych linii i odmian. Średni plon ziarna badanych linii pszenicy twardej – 5,82 t·ha-1 należy uznać za dobry, jednak w porównaniu z pszenicą zwyczajną stanowił tylko 66% jej plonu. Niższe plonowanie pszenicy twardej w porównaniu z pszenicą zwyczajną wynikało przede wszystkim z niższej obsady kłosów na jednostce powierzchni. Stwierdzono korzystne oddziaływanie ochrony chemicznej na liczbę kłosów oraz liczbę ziarn z kłosa. Linie pszenicy twardej wyróżniały się wysoką szklistością ziarna. - Źródło:
-
Acta Scientiarum Polonorum. Agricultura; 2009, 08, 3
1644-0625 - Pojawia się w:
- Acta Scientiarum Polonorum. Agricultura
- Dostawca treści:
- Biblioteka Nauki
Artykuł