Informacja

Drogi użytkowniku, aplikacja do prawidłowego działania wymaga obsługi JavaScript. Proszę włącz obsługę JavaScript w Twojej przeglądarce.

Wyszukujesz frazę "Schmidt, M" wg kryterium: Autor


Wyświetlanie 1-2 z 2
Tytuł:
A method for evaluation of uncertainties of noise parameter measurement
Autorzy:
Schmidt-Szałowski, M.
Wiatr, W.
Powiązania:
https://bibliotekanauki.pl/articles/308144.pdf
Data publikacji:
2002
Wydawca:
Instytut Łączności - Państwowy Instytut Badawczy
Tematy:
microwaves
noise metrology
measurement system
four noise parameters
sensitivity analysis
error propagation
uncertainty
Opis:
The assessment of uncertainties of a two-port noise parameters measurement, presented in the paper, relies on modeling of sources of errors and an investigation of propagation of the errors through a measurement system. This approach is based on a simplified additive error model and small-change sensitivity analysis. The evaluated uncertainties agrees with those observed in experiments. This method may be implemented in automatic noise measurement systems for on-line uncertainty assessment and for optimization of the design of an experiment.
Źródło:
Journal of Telecommunications and Information Technology; 2002, 1; 34-38
1509-4553
1899-8852
Pojawia się w:
Journal of Telecommunications and Information Technology
Dostawca treści:
Biblioteka Nauki
Artykuł
Tytuł:
Charging Phenomena at the Interface Between High-k Dielectrics and SiOx Interlayers
Autorzy:
Engström, O.
Raeissi, B.
Piscator, J.
Mitrovic, I. Z.
Hall, S.
Gottlob, H. D. B.
Schmidt, M.
Hurley, P. K.
Cherkaoui, K.
Powiązania:
https://bibliotekanauki.pl/articles/308138.pdf
Data publikacji:
2010
Wydawca:
Instytut Łączności - Państwowy Instytut Badawczy
Tematy:
defects
dielectrics
high-k
metal oxide semiconductor
Opis:
The transition regions of GdSiO/SiOx and HfO2/ SiOx interfaces have been studied with the high-k layers deposited on silicon substrates. The existence of transition regions was verified by medium energy ion scattering (MEIS) data and transmission electron microscopy (TEM). From measurements of thermally stimulated current (TSC), electron states were found in the transition region of the HfO2/SiOx structures, exhibiting instability attributed to the flexible structural molecular network expected to surround the trap volumes. The investigations were focused especially on whether the trap states belong to an agglomeration consisting of a single charge polarity or of a dipole constellation. We found that flat-band voltage shifts of MOS structures, that reach constant values for increasing oxide thickness, cannot be taken as unique evidence for the existence of dipole layers.
Źródło:
Journal of Telecommunications and Information Technology; 2010, 1; 10-19
1509-4553
1899-8852
Pojawia się w:
Journal of Telecommunications and Information Technology
Dostawca treści:
Biblioteka Nauki
Artykuł
    Wyświetlanie 1-2 z 2

    Ta witryna wykorzystuje pliki cookies do przechowywania informacji na Twoim komputerze. Pliki cookies stosujemy w celu świadczenia usług na najwyższym poziomie, w tym w sposób dostosowany do indywidualnych potrzeb. Korzystanie z witryny bez zmiany ustawień dotyczących cookies oznacza, że będą one zamieszczane w Twoim komputerze. W każdym momencie możesz dokonać zmiany ustawień dotyczących cookies