Informacja

Drogi użytkowniku, aplikacja do prawidłowego działania wymaga obsługi JavaScript. Proszę włącz obsługę JavaScript w Twojej przeglądarce.

Wyszukujesz frazę "new methods" wg kryterium: Wszystkie pola


Wyświetlanie 1-3 z 3
Tytuł:
Mikrostruktury i mikrosystemy - nowoczesne metody wytwarzania
Microstructures and microsystems - new methods of production
Autorzy:
Sulima, R.
Powiązania:
https://bibliotekanauki.pl/articles/159249.pdf
Data publikacji:
2003
Wydawca:
Sieć Badawcza Łukasiewicz - Instytut Elektrotechniki
Tematy:
fotolitografia
mikrostruktura
nanostruktura
nanorurka
kropka kwantowa
Opis:
W artykule przedstawiono podstawowe informacje o dotychczas stosowanych różnych metodach wytwarzania mikro- i nanostruktur. Scharakteryzowano procesy fotolitografii LIGA oraz metody wytwarzania nanorurek i kropek kwantowych. Porównano właściwości przedstawionych metod.
Miniaturisation of electronic devices: sensors, actuators etc occurs usually by using a suitable technology e.g.: photolithography, LIGA, chemical and plasma treatment of semiconductors. Photolithography is a specific variant of photography. This process consists of two stages: performing a mask and using the mask to produce duplicates. The mask is made of metal (chrome) spread on a glass or quartz wafer. In the next stage the mask is irradiated by ultraviolet rays (X-rays or an electron beam). The places when rays fall are selectively removed from the wafer by dry or wet etching. The other method is the soft photolithography which uses the soft polymer PDMS to carry out "stamping", this matrix can be them used for various purposes among others for: microcontact printing and capillary forming. The next stage is lithography with wet blade. It is a method using the microscope of atom forces. On this blade (it is to area of gold and make a self - assembled monolayer. Using the microscope of atom force it is possible to draw a very thin line which can be some atoms thick. The next method LIGA uses the synchrotron (circular accelerator of charged particles). The X-rays from a synchrotron source fall through a special mask onto a thick photoresist layer which covers a conductive substrate. The pattern formed is then electroplated with metal. The metal structures produced can be the final product, however it is common to produce a metal mould. This mould can then be filled with a suitable material, such as plastic, to produce the finished product made of that material. This is a high precision method but it is very expensive. The next group of technology are methods which produce nanotubes and quantum dots. Quantum dots are crystals made of several hundred atoms. One of the methods which produces these structures is the chemical reaction between metallic ions (cadmium) and selenium ions, which gives cadmium selenide as a result. Nanotubes are structures made of carbon atoms and can be produced in three stage: - the electric arc method - uses graphite electrodes and electric arc phenomena, - the CVD method - uses chemical reaction, - the laser method uses laser rays.
Źródło:
Prace Instytutu Elektrotechniki; 2003, 216; 17-29
0032-6216
Pojawia się w:
Prace Instytutu Elektrotechniki
Dostawca treści:
Biblioteka Nauki
Artykuł
Tytuł:
Nowe metody kształtowania charakterystyk czułości widmowej fotoodbiorników krzemowych
New methods of shaping spectral sensitivity in silicon photoreceivers
Autorzy:
Braczkowski, R.
Powiązania:
https://bibliotekanauki.pl/articles/159997.pdf
Data publikacji:
2006
Wydawca:
Sieć Badawcza Łukasiewicz - Instytut Elektrotechniki
Tematy:
pomiary kolorymetryczne
czujniki koloru
fotodiody
Opis:
W referacie omówię nowe fotoodbiorniki z kształtowaniem charakterystyk czułości widmowej. Porównam ich cechy z fotoodbiornikami z filtrami mozaikowymi i warstwowymi.
In this report I will talk about new photoreceirers with spectral sensitivity shaping. I will compare their features with photoreceireivers with laminated and mosaic filters.
Źródło:
Prace Instytutu Elektrotechniki; 2006, 228; 107-111
0032-6216
Pojawia się w:
Prace Instytutu Elektrotechniki
Dostawca treści:
Biblioteka Nauki
Artykuł
Tytuł:
Nowe metody oceny barierowości materiałów przeznaczonych na odzież chroniącą przed szkodliwym sztucznym promieniowaniem nadfioletowym
New methods to access barrier properties of textile materials for clothes against harmful artificial UV radiation
Autorzy:
Owczarek, G.
Bartkowiak, G.
Wolska, A.
Gralewicz, G.
Powiązania:
https://bibliotekanauki.pl/articles/160009.pdf
Data publikacji:
2012
Wydawca:
Sieć Badawcza Łukasiewicz - Instytut Elektrotechniki
Tematy:
środki ochrony indywidualnej
promieniowanie nadfioletowe
zagrożenia w miejscu pracy
personal protective equipment
UV radiation
workplace hazards
Opis:
Określona dawka promieniowania nadfioletowego jest ważnym czynnikiem środowiska, niezbędnym do prawidłowego rozwoju i działalności człowieka. Nadmierna ekspozycja tego promieniowania może wywołać negatywne skutki dla oczu i skóry oraz wpływa na system immunologiczny. Skóra narażona na ekspozycję promieniowania nadfioletowego powinna być osłonięta przez odzież roboczą lub ochronną o niskiej transmisji tego promieniowania. Dotyczy to zarówno ekspozycji na naturalne promieniowanie, jak również na sztuczne promieniowanie UV. Do tej pory nie ma jasnych kryteriów do oceny właściwości ochronnych przed sztucznym UV dla odzieży wykonanej z materiałów tekstylnych. Współczynnik UPF (Ultraviolet Protection Factor) jest odpowiedni do oceny właściwości ochronnych przed promieniowaniem słonecznym, lecz nie uwzględnia on zakresu nadfioletu od 190 do 290 nm, charakterystycznego dla typowych źródeł sztucznego promieniowania UV. W niniejszym artykule zaprezentowano koncepcję nowej metody do oceny barierowości materiałów przeznaczonych na odzież chroniącą przed szkodliwym sztucznym promieniowaniem nadfioletowym.
Some amounts of ultraviolet radiation are beneficial for humans but excessive exposure can cause many negative health effects to the skin and eyes and also can affect the immune system. Exposed area of skin should be covered by working or protective clothes with low UVR transmission. It concerns both exposure to natural UV or prolonged exposure to artificial UV. Currently, there are no clear criteria to assess textile clothing for workers exposed to artificial UV radiation. Ultraviolet protection factor (UPF) is adequate for effectiveness protection against solar radiation but does not take into consideration UV range from 190 to 290 nm which is characteristic for some types of artificial sources.
Źródło:
Prace Instytutu Elektrotechniki; 2012, 255; 109-123
0032-6216
Pojawia się w:
Prace Instytutu Elektrotechniki
Dostawca treści:
Biblioteka Nauki
Artykuł
    Wyświetlanie 1-3 z 3

    Ta witryna wykorzystuje pliki cookies do przechowywania informacji na Twoim komputerze. Pliki cookies stosujemy w celu świadczenia usług na najwyższym poziomie, w tym w sposób dostosowany do indywidualnych potrzeb. Korzystanie z witryny bez zmiany ustawień dotyczących cookies oznacza, że będą one zamieszczane w Twoim komputerze. W każdym momencie możesz dokonać zmiany ustawień dotyczących cookies