Informacja

Drogi użytkowniku, aplikacja do prawidłowego działania wymaga obsługi JavaScript. Proszę włącz obsługę JavaScript w Twojej przeglądarce.

Wyszukujesz frazę "anode" wg kryterium: Temat


Wyświetlanie 1-2 z 2
Tytuł:
Modelling of new generation plasma optical devices
Autorzy:
Litovko, I. V.
Goncharov, A. A.
Dobrovolskiy, A. N.
Naiko, L. V.
Naiko, I. V.
Powiązania:
https://bibliotekanauki.pl/articles/971496.pdf
Data publikacji:
2016
Wydawca:
Instytut Chemii i Techniki Jądrowej
Tematy:
anode layer
plasma lens
plasma accelerator
plasma jet
space charge
Opis:
The paper presents new generation plasma optical devices based on the electrostatic plasma lens configuration that opens a novel attractive possibility for effective high-tech practical applications. Original approaches to use of plasma accelerators with closed electron drift and open walls for the creation of a cost-effective low-maintenance plasma lens with positive space charge and possible application for low-cost, low-energy rocket engine are described. The preliminary experimental, theoretical and simulation results are presented. It is noted that the presented plasma devices are attractive for many different applications in the state-of-the-art vacuum-plasma processing.
Źródło:
Nukleonika; 2016, 61, 2; 207-212
0029-5922
1508-5791
Pojawia się w:
Nukleonika
Dostawca treści:
Biblioteka Nauki
Artykuł
Tytuł:
Non-self-sustained discharge with hollow anode for plasma-based surface treatment
Autorzy:
Misiruk, I. O.
Timoshenko, O. I.
Taran, V. S.
Garkusha, I. E.
Powiązania:
https://bibliotekanauki.pl/articles/147876.pdf
Data publikacji:
2016
Wydawca:
Instytut Chemii i Techniki Jądrowej
Tematy:
diffusion saturation
film deposition
hollow anode
ion etching
ion pumping
non-self-sustained glow discharge
Opis:
The paper discusses plasma methods for surface modification using the non-self-sustained glow discharge with a hollow anode. This discharge is characterised by low voltage and high values of electron and ion currents. It can be easily excited in vacuum-arc installations that are widely used for coatings deposition. It is shown that such type of discharge may be effectively used for ion pumping, film deposition, ion etching, diffusion saturation of metallic materials, fusion and brazing of metals, and for combined application of above mentioned technologies in a single vacuum cycle.
Źródło:
Nukleonika; 2016, 61, 2; 195-199
0029-5922
1508-5791
Pojawia się w:
Nukleonika
Dostawca treści:
Biblioteka Nauki
Artykuł
    Wyświetlanie 1-2 z 2

    Ta witryna wykorzystuje pliki cookies do przechowywania informacji na Twoim komputerze. Pliki cookies stosujemy w celu świadczenia usług na najwyższym poziomie, w tym w sposób dostosowany do indywidualnych potrzeb. Korzystanie z witryny bez zmiany ustawień dotyczących cookies oznacza, że będą one zamieszczane w Twoim komputerze. W każdym momencie możesz dokonać zmiany ustawień dotyczących cookies