Informacja

Drogi użytkowniku, aplikacja do prawidłowego działania wymaga obsługi JavaScript. Proszę włącz obsługę JavaScript w Twojej przeglądarce.

Wyszukujesz frazę "Miura, N." wg kryterium: Wszystkie pola


Wyświetlanie 1-1 z 1
Tytuł:
Variation Analysis of CMOS Technologies Using Surface-Potential MOSFET Model
Autorzy:
Mattausch, H. J.
Yumisaki, A.
Sadachika, N.
Kaya, A.
Johguchi, K.
Koide, T.
Miura-Mattausch, M.
Powiązania:
https://bibliotekanauki.pl/articles/308251.pdf
Data publikacji:
2009
Wydawca:
Instytut Łączności - Państwowy Instytut Badawczy
Tematy:
compact model
fabrication inaccuracy
field-effect transistor
macroscopic
microscopic
potential at channel surface
silicon
within wafer
Opis:
An analysis of the measured macroscopic withinwafer variations for threshold voltage (Vth) and on-current (Ion) over several technology generations (180 nm, 100 nm and 65 nm) is reported. It is verified that the dominant microscopic variations of the MOSFET device can be extracted quantitatively from these macroscopic variation data by applying the surface-potential compact model Hiroshima University STARC IGFET model 2 (HiSIM2), which is presently brought into industrial application. Only a small number of microscopic parameters, representing substrate doping (NSUBC), pocket-implantation doping (NSUBP), carrier-mobility degradation due to gate-interface roughness (MUESR1) and channel-length variation during the gate formation (XLD) are found sufficient to quantitatively reproduce the measured macroscopic within-wafer variations of Vth and Ion for all channel length Lg and all technology generations. Quantitative improvements from 180 nm to 65 nm are confirmed to be quite large for MUESR1 (about 70%) and Lmin(XLD) (55%) variations, related to the gate-oxide interface and the gate-stack structuring, respectively. On the other hand, doping-related technology advances, which are reflected by the variation magnitudes of NSUBC (30%) and NSUBP (25%), are found to be considerably smaller. Furthermore, specific combinations of extreme microscopic parameter-variation values are able to represent the boundaries of macroscopic fabrication inaccuracies for Vth and Ion. These combinations are found to remain identical, not only for all Lg of a given technology node, but also for all investigated technologies with minimum Lg of 180 nm, 100 nm and 65 nm.
Źródło:
Journal of Telecommunications and Information Technology; 2009, 4; 37-44
1509-4553
1899-8852
Pojawia się w:
Journal of Telecommunications and Information Technology
Dostawca treści:
Biblioteka Nauki
Artykuł
    Wyświetlanie 1-1 z 1

    Ta witryna wykorzystuje pliki cookies do przechowywania informacji na Twoim komputerze. Pliki cookies stosujemy w celu świadczenia usług na najwyższym poziomie, w tym w sposób dostosowany do indywidualnych potrzeb. Korzystanie z witryny bez zmiany ustawień dotyczących cookies oznacza, że będą one zamieszczane w Twoim komputerze. W każdym momencie możesz dokonać zmiany ustawień dotyczących cookies