Informacja

Drogi użytkowniku, aplikacja do prawidłowego działania wymaga obsługi JavaScript. Proszę włącz obsługę JavaScript w Twojej przeglądarce.

Wyszukujesz frazę "reakcja Fentona" wg kryterium: Temat


Wyświetlanie 1-2 z 2
Tytuł:
Numerical simulation study on NO oxidation by OH radical clusters in flue gas
Autorzy:
Wen, Zhengcheng
Zhang, Xiaofeng
Huang, Ju
Yang, Zhengyin
Powiązania:
https://bibliotekanauki.pl/articles/27323979.pdf
Data publikacji:
2023
Wydawca:
Politechnika Wrocławska. Oficyna Wydawnicza Politechniki Wrocławskiej
Tematy:
Fenton reaction
nitric oxide
numerical simulation
reakcja Fentona
tlenek azotu
symulacja numeryczna
Opis:
Fenton reaction is an important method to remove NO from flue gas. • OH radicals generated in the Fenton reaction can effectively oxidize NO to NO2, which is absorbed and removed by alkali sorbent. To supply guidance for engineering research, numerical simulation of NO oxidation by • OH radical clusters in flue gas has been carried out using Fluent software. The average concentration of NO on the cross sections at various positions of a cylindrical pipe with a circular surface was calculated by simulation. Under various working conditions (temperature, • OH/NO molar ratio, NO concentration in flue gas, and jet velocity), NO oxidation efficiency by • OH radical was simulated and the key factors affecting NO oxidation were analyzed. The results show that temperature and • OH/NO molar ratio are the key factors affecting the oxidation of NO by • OH radicals. The injection velocity has also a significant effect on the oxidation efficiency while the moisture and oxygen content are minor factors influencing the process. The optimum oxidation efficiency of NO is obtained at 473–523 K, the molar ratio of • OH/NO ca. 1.4, the jet velocity 10 m/s, and the flue gas velocity of 3 m/s.
Źródło:
Environment Protection Engineering; 2023, 49, 3; 69--82
0324-8828
Pojawia się w:
Environment Protection Engineering
Dostawca treści:
Biblioteka Nauki
Artykuł
Tytuł:
Advanced oxidation treatment of pentoxifylline in aqueous solutions
Autorzy:
Kamińska, B.
Skwierawska, A.
Kozłowska-Tylingo, K.
Tomczak-Wandzel, R.
Pazik, A.
Majewska, K.
Powiązania:
https://bibliotekanauki.pl/articles/207333.pdf
Data publikacji:
2017
Wydawca:
Politechnika Wrocławska. Oficyna Wydawnicza Politechniki Wrocławskiej
Tematy:
copper(III)
Fenton process
sewage treatment plant
toxicity
pharmaceuticals
reakcja Fentona
miedź(III)
farmaceutyki
toksyczność
oczyszczalnia ścieków
Opis:
The degradation of pentoxifylline (PTX) using H2O2, UV, H2O2/UV, Fenton and photo-Fenton processes has been examined in aqueous solutions. The influence of oxidation agent and initial PTX concentration, on H2O2, H2O2/UV, Fenton and photo-Fenton reactions was investigated. The addition of inorganic ions (Cl, NO3, SO42– and CO32–) on the degradation efficiency of PTX was tested for H2O2/UV, Fenton and photo-Fenton processeses. The results indicate that the photo-Fenton reaction is the most sufficient for PTX removal. The complete pharmaceutics decomposition is achieved after 5 min under optimized concentration of FeSO4,·7 H2O2 and H2O2. The degradation of PTX is inhibited in the presence of inorganic matter in H2O2/UV and Fenton reaction. In the photo-Fenton process addition of above compounds does not affect the reaction rate. Structures of ten products of photo-Fenton reaction have been proposed.
Źródło:
Environment Protection Engineering; 2017, 43, 1; 31-47
0324-8828
Pojawia się w:
Environment Protection Engineering
Dostawca treści:
Biblioteka Nauki
Artykuł
    Wyświetlanie 1-2 z 2

    Ta witryna wykorzystuje pliki cookies do przechowywania informacji na Twoim komputerze. Pliki cookies stosujemy w celu świadczenia usług na najwyższym poziomie, w tym w sposób dostosowany do indywidualnych potrzeb. Korzystanie z witryny bez zmiany ustawień dotyczących cookies oznacza, że będą one zamieszczane w Twoim komputerze. W każdym momencie możesz dokonać zmiany ustawień dotyczących cookies