Informacja

Drogi użytkowniku, aplikacja do prawidłowego działania wymaga obsługi JavaScript. Proszę włącz obsługę JavaScript w Twojej przeglądarce.

Wyszukujesz frazę "Nowak, P B" wg kryterium: Autor


Wyświetlanie 1-2 z 2
Tytuł:
Oxide scale formation on in 792 at early stages of high temperature exposure
Warstwa tlenkowa na podłożu nadstopu IN 792 w początkowym stadium procesu utleniania wysokotemperaturowego
Autorzy:
Nowak, W. J.
Wierzba, P.
Wierzba, B.
Sieniawski, J.
Powiązania:
https://bibliotekanauki.pl/articles/175976.pdf
Data publikacji:
2017
Wydawca:
Polska Akademia Nauk. Czytelnia Czasopism PAN
Tematy:
high temperature oxidation
Ni-base superalloy IN 792
oxidation kinetics
korozja wysokotemperaturowa
nadstop niklu IN 792
kinetyka utleniania
Opis:
In the present work a commercially available Ni-base superalloy IN 792 was exposed at 1050°C up to 50 hours in Ar+O2 (20%) for investigation of its oxidation kinetics as well as oxide scale formation. It was observed that the alloy formed chromium rich oxide scale. However, detailed analysis, including glow discharge optical emission spectroscopy (GD-OES) and scanning electron microscopy (SEM) showed that the alloy forms multiphase oxide scale consisting of TiO2, Cr2O3, TiTaO4 and Al2O3. The latter caused Al-depletion from the bulk material, which resulted in dissolution of the γ’ phase and local weakening of the IN 792.
W pracy przedstawiono analizę wyników próby utleniania wysokotemperaturowego nadstopu niklu IN 792 w temperaturze 1050°C, w czasie 50 h w atmosferze Ar+O2 (20%). Określono kinetykę procesu utleniania oraz scharakteryzowano wytworzoną warstwę tlenków. Analizę składu chemicznego prowadzono metodami emisyjnej spektroskopii optycznej z wyładowaniem jarzeniowym (GD-OES) i elektronowej mikroskopii skaningowej (SEM). Stwierdzono, że na podłożu nadstopu niklu IN 792 tworzy się wielowarstwowa zgorzelina złożona z tlenków TiO2, Cr2O3, TiTaO4 i Al2O3. Wykazano również, że tworzenie się wydzieleń Al2O3 powoduje lokalne zubożenie ziarn osnowy stopu w aluminium – składnika fazy umacniającej (Ni3Al). Prowadzi więc do degradacji tego składnika fazowego mikrostruktury i obniżenia stopnia umocnienia nadstopu IN 792.
Źródło:
Advances in Manufacturing Science and Technology; 2017, 41, 1; 65-74
0137-4478
Pojawia się w:
Advances in Manufacturing Science and Technology
Dostawca treści:
Biblioteka Nauki
Artykuł
Tytuł:
The influence of H2/HCL ratio on aluminizing by CVD method
Wpływ składu chemicznego mieszaniny gazów reakcyjnych H2/HCl na kinetykę procesu aluminiowania metodą CVD
Autorzy:
Wierzba, B.
Nowak, W. J.
Wierzba, P.
Góral, M.
Sieniawski, J.
Powiązania:
https://bibliotekanauki.pl/articles/175806.pdf
Data publikacji:
2017
Wydawca:
Polska Akademia Nauk. Czytelnia Czasopism PAN
Tematy:
CVD
multiphase system
alloys
volume continuity equation
układy wielofazowe
stopy
zasada zachowania gęstości objętości
Opis:
In this manuscript the theoretical studies of aluminisation by CVD method is shown. The bi-velocity model of multicomponent and multiphase diffusion is used to calculate the growth of β-NiAl phase under different ranges of miscibility (HCl to H2 ratio). The composition dependent diffusivities of β-NiAl and Ni3Al at 1350 K are presented and used in calculations.
W artykule zaprezentowano matematyczny model procesu aluminiowania metodą osadzania z fazy gazowej – CVD. Model matematyczny opracowano na podstawie uogólnionej metody Darkena – dwu-prędkości. Był podstawą oszacowania kinetyki powstawania kryształów fazy β-NiAl w zależności od natężenia przepływu dostarczonego gazu reakcyjnego – proporcja HCl:H2. W symulacji numerycznej uwzględniono wzrost kryształów dwóch faz pośrednich – β-NiAl oraz Ni3Al w temperaturze 1350 K – określono zmienne cząstkowe współczynniki dyfuzji składników.
Źródło:
Advances in Manufacturing Science and Technology; 2017, 41, 2; 53-61
0137-4478
Pojawia się w:
Advances in Manufacturing Science and Technology
Dostawca treści:
Biblioteka Nauki
Artykuł
    Wyświetlanie 1-2 z 2

    Ta witryna wykorzystuje pliki cookies do przechowywania informacji na Twoim komputerze. Pliki cookies stosujemy w celu świadczenia usług na najwyższym poziomie, w tym w sposób dostosowany do indywidualnych potrzeb. Korzystanie z witryny bez zmiany ustawień dotyczących cookies oznacza, że będą one zamieszczane w Twoim komputerze. W każdym momencie możesz dokonać zmiany ustawień dotyczących cookies