Informacja

Drogi użytkowniku, aplikacja do prawidłowego działania wymaga obsługi JavaScript. Proszę włącz obsługę JavaScript w Twojej przeglądarce.

Wyszukujesz frazę "Sidor, J." wg kryterium: Autor


Wyświetlanie 1-2 z 2
Tytuł:
Electrochemical Deposition of Nanowires in Porous Alumina
Autorzy:
Kalska-Szostko, B.
Brancewicz, E.
Mazalski, P.
Sveklo, J.
Olszewski, W.
Szymański, K.
Sidor, A.
Powiązania:
https://bibliotekanauki.pl/articles/1809497.pdf
Data publikacji:
2009-02
Wydawca:
Polska Akademia Nauk. Instytut Fizyki PAN
Tematy:
82.45.-h
62.23.Hj
82.45.Qr
81.07.-b
75.75.+a
Opis:
Electrochemical deposition is a very efficient method for producing many types of modern materials. The method is not expensive and does not have a limit for sample size. In our work the preparation of Ni, Co and Fe nanowires is presented. The obtained nanowires had different diameter and length which were tunable by template porous material and time of deposition, respectively. The quality of the prepared wires was dependent also on deposition mode. The smallest wires of the diameter around 40 nm were prepared in porous anodic alumina oxide obtained from oxalic acid. The largest ones, around 120 nm, were produced in phosphoric acid. The length could be as large as the thickness of the oxide and reached up to about 1 μm. The morphology of wires was studied by atomic force microscopy and scanning electron microscopy. The magnetic characterization was done with usage of magnetic force microscopy and the Mössbauer spectroscopy. The wires show magnetization along their growth direction.
Źródło:
Acta Physica Polonica A; 2009, 115, 2; 542-544
0587-4246
1898-794X
Pojawia się w:
Acta Physica Polonica A
Dostawca treści:
Biblioteka Nauki
Artykuł
Tytuł:
Technology of Ultrathin NbN and NbTiN Films for Superconducting Photodetectors
Autorzy:
Guziewicz, M.
Slysz, W.
Borysiewicz, M.
Kruszka, R.
Sidor, Z.
Juchniewicz, M.
Golaszewska, K.
Domagala, J.
Rzodkiewicz, W.
Ratajczak, J.
Bar, J.
Wegrzecki, M.
Sobolewski, R.
Powiązania:
https://bibliotekanauki.pl/articles/1492719.pdf
Data publikacji:
2011-12
Wydawca:
Polska Akademia Nauk. Instytut Fizyki PAN
Tematy:
74.62.Bf
74.78.-w
81.15.Cd
81.15.Jj
Opis:
We report fabrication and characterization of ultrathin NbN and NbTiN films designed for superconducting photodetectors. Our NbN and NbTiN films were deposited on $Al_2O_3$ and Si single-crystal wafers by a high-temperature, reactive magnetron sputtering method and, subsequently, annealed at 1000°C. The best, 18 nm thick NbN films deposited on sapphire exhibited the critical temperature of 15.0 K and the critical current density as high as ≈ 8 × $10^6$ A/$cm^2$ at 4.8 K.
Źródło:
Acta Physica Polonica A; 2011, 120, 6A; A-076-A-079
0587-4246
1898-794X
Pojawia się w:
Acta Physica Polonica A
Dostawca treści:
Biblioteka Nauki
Artykuł
    Wyświetlanie 1-2 z 2

    Ta witryna wykorzystuje pliki cookies do przechowywania informacji na Twoim komputerze. Pliki cookies stosujemy w celu świadczenia usług na najwyższym poziomie, w tym w sposób dostosowany do indywidualnych potrzeb. Korzystanie z witryny bez zmiany ustawień dotyczących cookies oznacza, że będą one zamieszczane w Twoim komputerze. W każdym momencie możesz dokonać zmiany ustawień dotyczących cookies