- Tytuł:
- Full Field Nanoimprint on Mask Aligners Using Substrate Conformal Imprint Lithography Technique
- Autorzy:
-
Ji, Ran
Krüger, A.
Hornung, M.
Verschuuren, M.
van de Laar, R.
van Eekelen, J. - Powiązania:
- https://bibliotekanauki.pl/articles/1807664.pdf
- Data publikacji:
- 2009-12
- Wydawca:
- Polska Akademia Nauk. Instytut Fizyki PAN
- Źródło:
-
Acta Physica Polonica A; 2009, 116, S; S-187-S-189
0587-4246
1898-794X - Pojawia się w:
- Acta Physica Polonica A
- Dostawca treści:
- Biblioteka Nauki
Artykuł