Informacja

Drogi użytkowniku, aplikacja do prawidłowego działania wymaga obsługi JavaScript. Proszę włącz obsługę JavaScript w Twojej przeglądarce.

Wyszukujesz frazę "Bagi, J. S." wg kryterium: Autor


Wyświetlanie 1-1 z 1
Tytuł:
Electrical Resistance Anomalies in Holmium Thin Films below 20 K in Magnetic Field
Autorzy:
Dudáš, J.
Gabáni, S.
Kavečanský, V.
Gościańska, I.
Bagi, J.
Powiązania:
https://bibliotekanauki.pl/articles/1534128.pdf
Data publikacji:
2010-11
Wydawca:
Polska Akademia Nauk. Instytut Fizyki PAN
Tematy:
73.61.At
75.70.Ak
68.55.Nq
Opis:
Electrical resistance (R) of Ho thin films evaporated in vacuum ≈ $10^{-7}$ Pa was studied in a temperature range from 2 K up to 300 K and in magnetic field up to 9 T. Measurements showed resistance anomalies below 20 K - minima of R value in 36 nm and 215 nm thin films and resistivity maximum at 3.58 K in 215 nm Ho film. Increasing value of the magnetic field, applied perpendicular to film surface up to 5 T, caused increasing suppression of the R minima in these films with subsequent disappearance of them in fields above 5 T. Maximum of R value in 215 nm thin film at 3.58 K decreased with increasing flux density up to 5 T and it was suppressed at fields above 5 T. X-ray diffraction of these films revealed two phases composition consisting of the hexagonal Ho and of cubic $HoH_2$. The preferential crystal orientation of both phases was detected.
Źródło:
Acta Physica Polonica A; 2010, 118, 5; 843-845
0587-4246
1898-794X
Pojawia się w:
Acta Physica Polonica A
Dostawca treści:
Biblioteka Nauki
Artykuł
    Wyświetlanie 1-1 z 1

    Ta witryna wykorzystuje pliki cookies do przechowywania informacji na Twoim komputerze. Pliki cookies stosujemy w celu świadczenia usług na najwyższym poziomie, w tym w sposób dostosowany do indywidualnych potrzeb. Korzystanie z witryny bez zmiany ustawień dotyczących cookies oznacza, że będą one zamieszczane w Twoim komputerze. W każdym momencie możesz dokonać zmiany ustawień dotyczących cookies