Generalization of Fourier law, in particular the introduction of two ‘delay times’ (relaxation time τq and thermalization time τT) leads to the new form of energy equation called the dual-phase-lag model (DPLM). This equation should be applied in a case of microscale heat transfer modeling. In particular, DPLM constitutes a good approximation of thermal processes which are characterized by extremely short duration (e.g. ultrafast laser pulse), extreme temperature gradients and geometrical features of domain considered (e.g. thin metal film). The aim of considerations presented in this paper is the identification of two above mentioned positive constants τq, τT. They correspond to the relaxation time, which is the mean time for electrons to change their energy states and the thermalization time, which is the mean time required for electrons and lattice to reach equilibrium. In this paper the DPLM equation is applied for analysis of thermal processes proceeding in a thin metal film subjected to a laser beam. At the stage of computations connected with the identification problem solution the evolutionary algorithms are used. To solve the problem the additional information concerning the transient temperature distribution on a metal film surface is assumed to be known.
Ta witryna wykorzystuje pliki cookies do przechowywania informacji na Twoim komputerze. Pliki cookies stosujemy w celu świadczenia usług na najwyższym poziomie, w tym w sposób dostosowany do indywidualnych potrzeb. Korzystanie z witryny bez zmiany ustawień dotyczących cookies oznacza, że będą one zamieszczane w Twoim komputerze. W każdym momencie możesz dokonać zmiany ustawień dotyczących cookies
Informacja
SZANOWNI CZYTELNICY!
UPRZEJMIE INFORMUJEMY, ŻE BIBLIOTEKA FUNKCJONUJE W NASTĘPUJĄCYCH GODZINACH:
Wypożyczalnia i Czytelnia Główna: poniedziałek – piątek od 9.00 do 19.00