Informacja

Drogi użytkowniku, aplikacja do prawidłowego działania wymaga obsługi JavaScript. Proszę włącz obsługę JavaScript w Twojej przeglądarce.

Tytuł pozycji:

The lateral distribution of the effective contact potential difference over the gate area of MOS structures

Tytuł:
The lateral distribution of the effective contact potential difference over the gate area of MOS structures
Autorzy:
Przewłocki, H. M.
Kudła, I.
Brzezińska, D.
Borowicz, L.
Sawicki, Z.
Massoud, H. Z.
Powiązania:
https://bibliotekanauki.pl/articles/378397.pdf
Data publikacji:
2003
Wydawca:
Sieć Badawcza Łukasiewicz - Instytut Technologii Elektronowej
Źródło:
Electron Technology : Internet Journal; 2003, 35, 6; 1-6
1897-2381
Język:
angielski
Prawa:
Wszystkie prawa zastrzeżone. Swoboda użytkownika ograniczona do ustawowego zakresu dozwolonego użytku
Dostawca treści:
Biblioteka Nauki
Artykuł
  Przejdź do źródła  Link otwiera się w nowym oknie
The lateral distribution of the effective contact potential difference (ECPD), often referred to as the work-function difference φMS, was determined experimentally for the first time over the gate area of a metal-oxide-semiconductor (MOS) structure. The photoelectric method for measuring φMS in MOS devices was modified to characterize the lateral distribution of ECPD. In square MOS gates, it is found that φMS values were highest in the center area of the gate, lower along the gate edges, and lowest at the gate corners. These results were confirmed by several independent photoelectric and electrical measurement methods. A model is proposed, in which the experimentally determined φ(x,y) distributions, are attributed to mechanical stress distribtitions in MOS structures. Equations are derived allowing calculation of φMS(x,y) distributions for various structures. Results of these calculations remain in agreement with experimentally obtained distributions.

Ta witryna wykorzystuje pliki cookies do przechowywania informacji na Twoim komputerze. Pliki cookies stosujemy w celu świadczenia usług na najwyższym poziomie, w tym w sposób dostosowany do indywidualnych potrzeb. Korzystanie z witryny bez zmiany ustawień dotyczących cookies oznacza, że będą one zamieszczane w Twoim komputerze. W każdym momencie możesz dokonać zmiany ustawień dotyczących cookies