The local value distributions of the effective contact potential difference (ECPD or the phi MS factor) over the gate area of Al-SiO2-Si structures were investigated for the first time. A modification of the photoelectric phi MS measurement method was developed, which allows determination of local values of this parameter in different parts of metaloxide-semiconductor (MOS) structures. It was found that the phi MS distribution was such, that its values were highest far away from the gate edge regions (e.g., in the middle of a square gate), lower in the vicinity of gate edges and still lower in the vicinity of gate corners. These results were confirmed by several independent photoelectric and electrical measurement methods. A model is proposed of this distribution in which the experimentally determined phi MS (x; y) distributions, found previously, are attributed to mechanical stress distributions in MOS structures. Model equations are derived and used to calculate phi MS (x; y) distributions for various structures. Results of these calculations remain in agreement with experimentally obtained distributions. Comparison of various characteristics calculated using the model with the results of photoelectric and electrical measurements of a wide range of Al-SiO2-Si structures support the validity of the model.
Ta witryna wykorzystuje pliki cookies do przechowywania informacji na Twoim komputerze. Pliki cookies stosujemy w celu świadczenia usług na najwyższym poziomie, w tym w sposób dostosowany do indywidualnych potrzeb. Korzystanie z witryny bez zmiany ustawień dotyczących cookies oznacza, że będą one zamieszczane w Twoim komputerze. W każdym momencie możesz dokonać zmiany ustawień dotyczących cookies
Informacja
SZANOWNI CZYTELNICY!
UPRZEJMIE INFORMUJEMY, ŻE W OKRESIE WAKACYJNYM BIBLIOTEKA BĘDZIE FUNKCJONOWAŁA W ZMIENIONYCH GODZINACH::
od 15 do 31 lipca:
Wypożyczalnia i Czytelnia Główna:
9.00 - 15.00
(poniedziałek-piątek)
Czytelnia Działu Zbiorów Specjalnych:
9.00 - 15.00
(poniedziałek-piątek)
od 1 do 31 sierpnia:
BIBLIOTEKA BĘDZIE NIECZYNNA
UWAGA:
Zwrotu wypożyczonych materiałów można dokonać u dyżurującego bibliotekarza w Wypożyczalni Głównej od 9.00 do 15.00.
Na pozycje, których termin zwrotu przypadnie od 1 do 31 sierpnia, wprowadzona zostanie prolongata (nowy termin zwrotu – 6 września).