Informacja

Drogi użytkowniku, aplikacja do prawidłowego działania wymaga obsługi JavaScript. Proszę włącz obsługę JavaScript w Twojej przeglądarce.

Tytuł pozycji:

Electron mobility and drain current in strained-Si MOSFET

Tytuł:
Electron mobility and drain current in strained-Si MOSFET
Autorzy:
Walczak, J.
Majkusiak, B.
Powiązania:
https://bibliotekanauki.pl/articles/308631.pdf
Data publikacji:
2007
Wydawca:
Instytut Łączności - Państwowy Instytut Badawczy
Tematy:
electron mobility
strained-Si MOSFET
Źródło:
Journal of Telecommunications and Information Technology; 2007, 3; 84-87
1509-4553
1899-8852
Język:
angielski
Prawa:
Wszystkie prawa zastrzeżone. Swoboda użytkownika ograniczona do ustawowego zakresu dozwolonego użytku
Dostawca treści:
Biblioteka Nauki
Artykuł
  Przejdź do źródła  Link otwiera się w nowym oknie
Electron mobility and drain current in a strained-Si MOSFET have been calculated and compared with the mobility and drain current obtained for the relaxed material. In the first step, our mobility model has been calibrated to the "universal mobility" according to the available experimental data for unstrained Si MOSFETS. Then, employing the mobility parameters derived in the calibration process, electron mobility and the drain current have been calculated for strained-Si MOSFETs.

Ta witryna wykorzystuje pliki cookies do przechowywania informacji na Twoim komputerze. Pliki cookies stosujemy w celu świadczenia usług na najwyższym poziomie, w tym w sposób dostosowany do indywidualnych potrzeb. Korzystanie z witryny bez zmiany ustawień dotyczących cookies oznacza, że będą one zamieszczane w Twoim komputerze. W każdym momencie możesz dokonać zmiany ustawień dotyczących cookies