Informacja

Drogi użytkowniku, aplikacja do prawidłowego działania wymaga obsługi JavaScript. Proszę włącz obsługę JavaScript w Twojej przeglądarce.

Tytuł pozycji:

Metastability problems in amorphous silicon

Tytuł:
Metastability problems in amorphous silicon
Autorzy:
Pietruszko, S.M.
Kostana, M.
Powiązania:
https://bibliotekanauki.pl/articles/308419.pdf
Data publikacji:
2001
Wydawca:
Instytut Łączności - Państwowy Instytut Badawczy
Tematy:
amorphous silicon
metastability
thermal quenching
Źródło:
Journal of Telecommunications and Information Technology; 2001, 1; 76-79
1509-4553
1899-8852
Język:
angielski
Prawa:
Wszystkie prawa zastrzeżone. Swoboda użytkownika ograniczona do ustawowego zakresu dozwolonego użytku
Dostawca treści:
Biblioteka Nauki
Artykuł
  Przejdź do źródła  Link otwiera się w nowym oknie
The results of study of the influence of boron and phosphorous doping and hydrogen content on transport properties and thermally induced metastability of LPCVD a-Si are reported. The thermally induced metastability has been observed in both unhydrogenated and hydrogenated P-doped a-Si films. Metastability is a barrier for wide application of a-Si such solar cells. In this paper we report our studies on the effect of thermally induced metastability in LPCVD a-Si as a function of implanted boron and phosphorous concentration. We have investigated films unhydrogenated and hydrogenated by ion implantation. The results are qualitatively agreed with bond breaking model.

Ta witryna wykorzystuje pliki cookies do przechowywania informacji na Twoim komputerze. Pliki cookies stosujemy w celu świadczenia usług na najwyższym poziomie, w tym w sposób dostosowany do indywidualnych potrzeb. Korzystanie z witryny bez zmiany ustawień dotyczących cookies oznacza, że będą one zamieszczane w Twoim komputerze. W każdym momencie możesz dokonać zmiany ustawień dotyczących cookies