System wymiany i pozycjonowania podłoży w urządzeniach PVD/CVD

Szczegóły
Opis

Tytuł:: System wymiany i pozycjonowania podłoży w urządzeniach PVD/CVD
The system of positioning substrates in PVD devices
Autorzy:: Samborski, T.
Kozioł, S.
Matecki, K.
Powiązania:: https://bibliotekanauki.pl/articles/257288.pdf
Data publikacji:: 2008
Wydawca:: Sieć Badawcza Łukasiewicz - Instytut Technologii Eksploatacji - Państwowy Instytut Badawczy
Tematy:: komora próżniowa
procesy PVD/CVD
śluza próżniowa
manipulator
vacuum chamber
PVD processes
load lock
substrate transporters
Źródło:: Problemy Eksploatacji; 2008, 2; 129-137
1232-9312
Język:: polski
Prawa:: Wszystkie prawa zastrzeżone. Swoboda użytkownika ograniczona do ustawowego zakresu dozwolonego użytku
Dostawca treści:: Biblioteka Nauki
: Artykuł

Przejdź do źródła

W artykule przedstawiono rozwiązanie techniczne systemu wymiany i pozycjonowania podłoży w urządzeniach do badania i opracowywania technologii PVD. Składa się on z zespołu manipulatorów oraz ze śluzy do wprowadzania próbek do komory próżniowej, co pozwala na selektywną identyfikację efektów wybranych etapów procesów.

The article presents technical solutions of positioning substrates in devices for examining and developing PVD technologies. It is composed of a load lock for placing samples in a vacuum chamber and a system of substrate transporters which allow for the identification of the effects of selected process stages.

Informacja

Powiązane pozycje