Wytwarzanie ultra cienkich warstw z wykorzystaniem line 440 sputtering system

W artykule omówiono jedną z możliwych technik nanoszenia cienkich warstw na podłoża szklane jaką jest sputtering magnetronowy. Metoda polega na nanoszeniu na przygotowane podłoża, materiałów w wyniku rozpylania plazmowego. LINE 440 jest aparaturą najnowszej generacji wykorzystywaną do celów naukowo-badawczych w Centrum Badań nad Innowacjami przy Państwowej Szkole Wyższej w Białej Podlaskiej.

The article describes one of the possible techniques for thin films preparation on glass substrates. The method involves applying to the surface of sample externally controlled media, which is sprayed in a magnetic field and then deposited onto a substrate. Line 440 is the latest generation apparatus used for the purposes of research at the Center for Innovation Research at the State School in Biala Podlaska.