The viability of epitaxial regrowth of non-intentionally doped InP to passivate lateral mesa surfaces of InGaAs photodiodes lattice-matched to InP is investigated, evaluating whether the residual doping of the regrown layer can be responsible for un unexpected increase of the surface current. The effect of residual doping is evaluated via numerical calculations of dark current, considering the range of doping concentrations expected for non-intentionally doped InP. The calculations show that the increase in dark current due to the residual doping of the regrown InP layer is not enough to justify the observed increase in surface current. On the other hand, the technique is still valid as a passivation method if the photodetector pixel is isolated by etching only the top contact layer.
Ta witryna wykorzystuje pliki cookies do przechowywania informacji na Twoim komputerze. Pliki cookies stosujemy w celu świadczenia usług na najwyższym poziomie, w tym w sposób dostosowany do indywidualnych potrzeb. Korzystanie z witryny bez zmiany ustawień dotyczących cookies oznacza, że będą one zamieszczane w Twoim komputerze. W każdym momencie możesz dokonać zmiany ustawień dotyczących cookies
Informacja
SZANOWNI CZYTELNICY!
UPRZEJMIE INFORMUJEMY, ŻE BIBLIOTEKA FUNKCJONUJE W NASTĘPUJĄCYCH GODZINACH:
Wypożyczalnia i Czytelnia Główna: poniedziałek – piątek od 9.00 do 19.00