A series of highly perfect Al$\text{}_{0.45}$Ga$\text{}_{0.55}$ As epitaxial layers implanted with 1 MeV Si ions to the doses in a range 7×10$\text{}^{13}$-2×10$\text{}^{15}$ ions/cm$\text{}^{2}$ were studied with various conventional and synchrotron X-ray diffraction methods. The presently used methods allowed both the measurement of lattice parameter changes and strain induced deformation. The evaluation of complete strain profiles was also performed by numerical simulation of diffraction curves. It was found that the implantation induced considerable change of lattice parameter reached the maximum at the dose 3×10$\text{}^{14}$ ions/cm$\text{}^{2}$. The recorded curves proved also that the lattice parameter is almost constant in the near surface region of the implanted layers. The applied doses did not cause lattice amorphisation at room temperature.
Ta witryna wykorzystuje pliki cookies do przechowywania informacji na Twoim komputerze. Pliki cookies stosujemy w celu świadczenia usług na najwyższym poziomie, w tym w sposób dostosowany do indywidualnych potrzeb. Korzystanie z witryny bez zmiany ustawień dotyczących cookies oznacza, że będą one zamieszczane w Twoim komputerze. W każdym momencie możesz dokonać zmiany ustawień dotyczących cookies
Informacja
SZANOWNI CZYTELNICY!
UPRZEJMIE INFORMUJEMY, ŻE BIBLIOTEKA FUNKCJONUJE W NASTĘPUJĄCYCH GODZINACH:
Wypożyczalnia i Czytelnia Główna: poniedziałek – piątek od 9.00 do 19.00