The research of the surface and the near-surface region of Cz-Si wafers irradiated with fast oxygen and neon ions of energy 4 MeV/u and dose 10$\text{}^{14}$ particles/cm$\text{}^{2}$ is presented. In our study several methods based on the Bragg case of X-ray diffraction using Ag K_{α$\text{}_{1}}$, as well as reflection high-energy electron diffraction and Nomarsky optical microscopy were used. It was shown that implantation with fast neon ions causes larger disturbances of silicon crystal structure than irradiation with oxygen ions.
Ta witryna wykorzystuje pliki cookies do przechowywania informacji na Twoim komputerze. Pliki cookies stosujemy w celu świadczenia usług na najwyższym poziomie, w tym w sposób dostosowany do indywidualnych potrzeb. Korzystanie z witryny bez zmiany ustawień dotyczących cookies oznacza, że będą one zamieszczane w Twoim komputerze. W każdym momencie możesz dokonać zmiany ustawień dotyczących cookies
Informacja
SZANOWNI CZYTELNICY!
UPRZEJMIE INFORMUJEMY, ŻE BIBLIOTEKA FUNKCJONUJE W NASTĘPUJĄCYCH GODZINACH:
Wypożyczalnia i Czytelnia Główna: poniedziałek – piątek od 9.00 do 19.00