Two positron techniques have been applied to study dynamics of oxygen precipitation in Czochralski-grown silicon, annealed under high (up to 1.4 GPa) pressure. Lifetime measurements were performed with 180 ps resolution; Doppler broadening with a variable-energy slow-positron beam. Different thermal treatings rise the mean lifetime of positrons from 222 ps in as-grown samples up to 227 ps. In samples with a high (up to 85%) amount of oxygen precipitated, an intermediate (550-800 ps) lifetime is observed.
Ta witryna wykorzystuje pliki cookies do przechowywania informacji na Twoim komputerze. Pliki cookies stosujemy w celu świadczenia usług na najwyższym poziomie, w tym w sposób dostosowany do indywidualnych potrzeb. Korzystanie z witryny bez zmiany ustawień dotyczących cookies oznacza, że będą one zamieszczane w Twoim komputerze. W każdym momencie możesz dokonać zmiany ustawień dotyczących cookies
Informacja
SZANOWNI CZYTELNICY!
UPRZEJMIE INFORMUJEMY, ŻE BIBLIOTEKA FUNKCJONUJE W NASTĘPUJĄCYCH GODZINACH:
Wypożyczalnia i Czytelnia Główna: poniedziałek – piątek od 9.00 do 19.00