Informacja

Drogi użytkowniku, aplikacja do prawidłowego działania wymaga obsługi JavaScript. Proszę włącz obsługę JavaScript w Twojej przeglądarce.

Tytuł pozycji:

Transport Properties of Silicon δ-Doped Gaas in High Electron Density Regime

Tytuł:
Transport Properties of Silicon δ-Doped Gaas in High Electron Density Regime
Autorzy:
Buyanov, A. V.
Holtz, P. O.
Pozina, G.
Monemar, B.
Thordson, J.
Andersson, T. G.
Powiązania:
https://bibliotekanauki.pl/articles/1968047.pdf
Data publikacji:
1997-10
Wydawca:
Polska Akademia Nauk. Instytut Fizyki PAN
Tematy:
72.60.+g
61.72.Vv
68.55.Ln
Źródło:
Acta Physica Polonica A; 1997, 92, 4; 727-732
0587-4246
1898-794X
Język:
angielski
Prawa:
Wszystkie prawa zastrzeżone. Swoboda użytkownika ograniczona do ustawowego zakresu dozwolonego użytku
Dostawca treści:
Biblioteka Nauki
Artykuł
  Przejdź do źródła  Link otwiera się w nowym oknie
We report results for Si layers embedded in GaAs, extending from the delta-doped (δ-doped) range up to 6 monolayers derived by means of variable temperature resistivity and Hall effect measurements, secondary ion mass spectrometry and high resolution X-ray diffractometry techniques. The conductivity transition from free carrier transport in ordered δ-layers (<1 ML) to strongly-localized two-dimensional variable range hopping transport under potential fluctuation disordered conditions (>4 ML) is clearly observed. This observation is in good agreement with the secondary ion mass spectrometry and high resolution X-ray diffractometry data. Results from the intermediate case with 2-3 MLs are also discussed.

Ta witryna wykorzystuje pliki cookies do przechowywania informacji na Twoim komputerze. Pliki cookies stosujemy w celu świadczenia usług na najwyższym poziomie, w tym w sposób dostosowany do indywidualnych potrzeb. Korzystanie z witryny bez zmiany ustawień dotyczących cookies oznacza, że będą one zamieszczane w Twoim komputerze. W każdym momencie możesz dokonać zmiany ustawień dotyczących cookies