We report on n-type indium doping of CdTe films grown by molecular beam epitaxy on (001) GaAs substrates. By adjusting the flux of In atoms we can precisely control the carrier concentration over three orders of magnitude - from 8 × 10$\text{}^{14}$ up to 1.3 × 10$\text{}^{18}$ cm$\text{}^{-3}$. In agreement with earlier reports we confirmed that Cd overpressure plays an important role in the doping process. The doping appears to be most effective for Cd/Te pressure ratio of 1.5. For this value of Cd/Te pressure ratio essentially 100% efficiency of doping is achieved at low In concentrations (< 10$\text{}^{18}$ cm$\text{}^{-3}$). At higher In concentrations acceptor impurities compensate shallow donors limiting the concentration of free carriers.
Ta witryna wykorzystuje pliki cookies do przechowywania informacji na Twoim komputerze. Pliki cookies stosujemy w celu świadczenia usług na najwyższym poziomie, w tym w sposób dostosowany do indywidualnych potrzeb. Korzystanie z witryny bez zmiany ustawień dotyczących cookies oznacza, że będą one zamieszczane w Twoim komputerze. W każdym momencie możesz dokonać zmiany ustawień dotyczących cookies
Informacja
SZANOWNI CZYTELNICY!
UPRZEJMIE INFORMUJEMY, ŻE BIBLIOTEKA FUNKCJONUJE W NASTĘPUJĄCYCH GODZINACH:
Wypożyczalnia i Czytelnia Główna: poniedziałek – piątek od 9.00 do 19.00