Deposition of Amorphous Hydrogenated Carbon Coatings by Plasma Jet

Szczegóły
Opis

Tytuł:: Deposition of Amorphous Hydrogenated Carbon Coatings by Plasma Jet
Autorzy:: Marcinauskas, L.
Grigonis, A.
Manikowski, H.
Valincius, V.
Powiązania:: https://bibliotekanauki.pl/articles/1813408.pdf
Data publikacji:: 2008-03
Wydawca:: Polska Akademia Nauk. Instytut Fizyki PAN
Tematy:: 81.15.-z
81.05.Uw
78.30.-j
Źródło:: Acta Physica Polonica A; 2008, 113, 3; 1063-1066
0587-4246
1898-794X
Język:: angielski
Prawa:: Wszystkie prawa zastrzeżone. Swoboda użytkownika ograniczona do ustawowego zakresu dozwolonego użytku
Dostawca treści:: Biblioteka Nauki
: Artykuł

Przejdź do źródła

In this study amorphous hydrogenated carbon films (a-C:H) were formed on Si (111) from an $Ar-C_2H_2$ and $Ar-C_2H_2-H_2$ gas mixtures at 1000 Pa pressure using a plasma jet chemical vapour deposition. It is shown that by varying the $Ar:C_2H_2$ ratio and adding the hydrogen gas in plasma, the structure, surface morphology, growth rate of the coatings, and consequently their optical properties can be controlled.

Informacja

Powiązane pozycje