Characterization of ZnO Films Grown at Low Temperature

Szczegóły
Opis

Tytuł:: Characterization of ZnO Films Grown at Low Temperature
Autorzy:: Przeździecka, E.
Krajewski, T.
Wójcik-Głodowska, A.
Yatsunenko, S.
Łusakowska, E.
Paszkowicz, W.
Guziewicz, E.
Wachnicki, Ł.
Szczepanik, A.
Godlewski, M.
Powiązania:: https://bibliotekanauki.pl/articles/1811975.pdf
Data publikacji:: 2008-11
Wydawca:: Polska Akademia Nauk. Instytut Fizyki PAN
Tematy:: 78.55.-m
81.10.-h
85.30.Fg
Źródło:: Acta Physica Polonica A; 2008, 114, 5; 1303-1310
0587-4246
1898-794X
Język:: angielski
Prawa:: Wszystkie prawa zastrzeżone. Swoboda użytkownika ograniczona do ustawowego zakresu dozwolonego użytku
Dostawca treści:: Biblioteka Nauki
: Artykuł

Przejdź do źródła

ZnO thin films were grown by atomic layer deposition method at extremely low temperature using a reactive diethylzinc as a zinc precursor. Optical properties, electrical properties and surface morphology were examined by photoluminescence, Hall effect and atomic force microscope. The study shows correlation between optical, electrical properties and surface morphology in a series of samples of different thickness.

Informacja

Powiązane pozycje