Al/ZnO:N/Al and Ni/ZnO:N/Al diode photodetectors fabricated by dc magnetron sputtering of ZnO:N films on p-Si substrates are studied. The photocurrent-to-dark current ratio equal to 250 at λ= 390 nm and the time constant of photoresponse about 10 μs for Al/ZnO:N/Al structures with 4 μm interdigital spacing was achieved. The Ni/ZnO:N/Al diode structure has the rectification ratio ≈10² at bias 1 V, the maximal responsivity about 0.1 A/W is observed at 365 nm, and the measured time constant of photoresponse is about 100 ns.
Ta witryna wykorzystuje pliki cookies do przechowywania informacji na Twoim komputerze. Pliki cookies stosujemy w celu świadczenia usług na najwyższym poziomie, w tym w sposób dostosowany do indywidualnych potrzeb. Korzystanie z witryny bez zmiany ustawień dotyczących cookies oznacza, że będą one zamieszczane w Twoim komputerze. W każdym momencie możesz dokonać zmiany ustawień dotyczących cookies
Informacja
SZANOWNI CZYTELNICY!
UPRZEJMIE INFORMUJEMY, ŻE BIBLIOTEKA FUNKCJONUJE W NASTĘPUJĄCYCH GODZINACH:
Wypożyczalnia i Czytelnia Główna: poniedziałek – piątek od 9.00 do 19.00