Microstructure and electrical properties of hydrogenated nanocrystalline silicon (nc-Si:H) film deposited on glass substrate at low temperature were characterized by average grain size, crystallinity, and dark electrical conductivity data obtained from the Raman and electrical conductivity spectroscopy, respectively. The average grain size, crystallinity and electrical conductivity have a similar change with substrate temperature. A threshold substrate temperature determined by silane concentration appears in their corresponding spectroscopy vs. substrate temperature. The dependence of crystallinity, average grain size and electrical conductivity on substrate temperature were accounted for by surface diffusion model and heterojunction quantum dot model, respectively.
Ta witryna wykorzystuje pliki cookies do przechowywania informacji na Twoim komputerze. Pliki cookies stosujemy w celu świadczenia usług na najwyższym poziomie, w tym w sposób dostosowany do indywidualnych potrzeb. Korzystanie z witryny bez zmiany ustawień dotyczących cookies oznacza, że będą one zamieszczane w Twoim komputerze. W każdym momencie możesz dokonać zmiany ustawień dotyczących cookies
Informacja
SZANOWNI CZYTELNICY!
UPRZEJMIE INFORMUJEMY, ŻE BIBLIOTEKA FUNKCJONUJE W NASTĘPUJĄCYCH GODZINACH:
Wypożyczalnia i Czytelnia Główna: poniedziałek – piątek od 9.00 do 19.00