Analysis of Interaction of Surfactant Molecules with Si(hkl) Planes on the Basis of Anisotropic Etching in Alkaline Solutions

Szczegóły
Opis

Tytuł:: Analysis of Interaction of Surfactant Molecules with Si(hkl) Planes on the Basis of Anisotropic Etching in Alkaline Solutions
Autorzy:: Zubel, I.
Kramkowska, M.
Powiązania:: https://bibliotekanauki.pl/articles/1807532.pdf
Data publikacji:: 2009-12
Wydawca:: Polska Akademia Nauk. Instytut Fizyki PAN
Tematy:: 61.30.Hn
61.72.uj
64.70.kg
Źródło:: Acta Physica Polonica A; 2009, 116, S; S-105-S-107
0587-4246
1898-794X
Język:: angielski
Prawa:: Wszystkie prawa zastrzeżone. Swoboda użytkownika ograniczona do ustawowego zakresu dozwolonego użytku
Dostawca treści:: Biblioteka Nauki
: Artykuł

Przejdź do źródła

In the paper, measurements of surface tension of solutions used for silicon etching and results of etching in the solutions are presented. Based on the obtained results, the analysis of interactions of surfactants with differently oriented silicon planes has been carried out.

Informacja

Powiązane pozycje