The main goal of the work was the elaboration of the analytical functional relationship between refractive index n and density ρ of $SiO_{2}$ layers on silicon substrates. Such ρ (n) relationship will give possibility to determine elastic and non-elastic strains in $SiO_{2}$ layers on silicon substrates. Ellipsometric measurements by using variable angle spectroscopic ellipsometer of J.A. Woollam Company allowed determination of thicknesses and refractive indexes of silica layers. Measured $SiO_{2}$ masses and calculated volumes of the layers gave possibility to define the degree of densification of silicon dioxide layers on silicon substrates. The Hill approximation function curve turned out to be the best fitting. The obtained Hill curve shows saturation for the density of silicon dioxide equal to ca. 4.53 g/$cm^{3}$. This value corresponds to the value nearby the one of the crystalline polytypic silicon dioxide (stishovite). It seems to be physically established that degree of densification tends to the limiting value.
Ta witryna wykorzystuje pliki cookies do przechowywania informacji na Twoim komputerze. Pliki cookies stosujemy w celu świadczenia usług na najwyższym poziomie, w tym w sposób dostosowany do indywidualnych potrzeb. Korzystanie z witryny bez zmiany ustawień dotyczących cookies oznacza, że będą one zamieszczane w Twoim komputerze. W każdym momencie możesz dokonać zmiany ustawień dotyczących cookies
Informacja
SZANOWNI CZYTELNICY!
UPRZEJMIE INFORMUJEMY, ŻE BIBLIOTEKA FUNKCJONUJE W NASTĘPUJĄCYCH GODZINACH:
Wypożyczalnia i Czytelnia Główna: poniedziałek – piątek od 9.00 do 19.00