Informacja

Drogi użytkowniku, aplikacja do prawidłowego działania wymaga obsługi JavaScript. Proszę włącz obsługę JavaScript w Twojej przeglądarce.

Tytuł pozycji:

Temperature-induced changes in the topography and morphology of C–nPd films deposited on fused silica

Tytuł:
Temperature-induced changes in the topography and morphology of C–nPd films deposited on fused silica
Autorzy:
Diduszko, R.
Kowalska, E.
Kozłowski, M.
Czerwosz, E.
Kamińska, A.
Powiązania:
https://bibliotekanauki.pl/articles/174476.pdf
Data publikacji:
2013
Wydawca:
Politechnika Wrocławska. Oficyna Wydawnicza Politechniki Wrocławskiej
Tematy:
carbonaceous-palladium film
PVD
XRD
SEM
FTIR
Źródło:
Optica Applicata; 2013, 43, 1; 133-141
0078-5466
1899-7015
Język:
angielski
Prawa:
CC BY: Creative Commons Uznanie autorstwa 4.0
Dostawca treści:
Biblioteka Nauki
Artykuł
  Przejdź do źródła  Link otwiera się w nowym oknie
Changes in superficial and structural properties in carbonaceous–palladium (C–Pd) films prepared by PVD method, induced by annealing them in an inert atmosphere were studied. C–Pd films with different Pd content in a carbon matrix were investigated. SEM observation after heat treatment showed the agglomeration of palladium nanograins into bigger grains and significant changes in a topography and morphology of C–Pd films. XRD studies confirmed the formation of big (more than 100 nm in diameter) Pd nanograins as a result of the annealing process. FTIR studies showed that C–Pd films from PVD process contained fullerene C60 and palladium acetate (films precursors), which were decomposed during the annealing process.

Ta witryna wykorzystuje pliki cookies do przechowywania informacji na Twoim komputerze. Pliki cookies stosujemy w celu świadczenia usług na najwyższym poziomie, w tym w sposób dostosowany do indywidualnych potrzeb. Korzystanie z witryny bez zmiany ustawień dotyczących cookies oznacza, że będą one zamieszczane w Twoim komputerze. W każdym momencie możesz dokonać zmiany ustawień dotyczących cookies