We numerically studied artifact issues on near-field imaging of field intensity on metal nanostruc-tures (isolated ridges and slits in a continuous film) with an apertured probe. It is shown for the latter case that the interaction between neighboring slits via propagating surface plasmon waves (e.g., surface plasmon wave interferences) makes the probe-imaged field intensity highly condi-tional in reflection of the unperturbed field. As surface plasmon behaviors and probe imaging processes are polarization-sensitive and the field components are correlated, a model analysis of the partial field components elucidates their relations, which can help to derive the unperturbed near-field image from the probed one.
Ta witryna wykorzystuje pliki cookies do przechowywania informacji na Twoim komputerze. Pliki cookies stosujemy w celu świadczenia usług na najwyższym poziomie, w tym w sposób dostosowany do indywidualnych potrzeb. Korzystanie z witryny bez zmiany ustawień dotyczących cookies oznacza, że będą one zamieszczane w Twoim komputerze. W każdym momencie możesz dokonać zmiany ustawień dotyczących cookies
Informacja
SZANOWNI CZYTELNICY!
UPRZEJMIE INFORMUJEMY, ŻE BIBLIOTEKA FUNKCJONUJE W NASTĘPUJĄCYCH GODZINACH:
Wypożyczalnia i Czytelnia Główna: poniedziałek – piątek od 9.00 do 19.00