Electrical characteristics of the heterojunction fabricated by thermal deposition of copper phthalocyanine (CuPc) on an n-silicon substrate have been investigated. The frequency has significant effect on capacitance (C), conductance (G) and series resistance $(R_{s})$ interface states $(D_{it})$ of the junction. Measured capacitance and conductance were corrected for $R_{s}$. The conductance technique was used to measure the density of the interface states. This method revealed the value of the interface state density distribution for the Au/n-Si/CuPc/Au interfaces of the order of $10^{12} cm^{-2} eV^{-1}$.
Ta witryna wykorzystuje pliki cookies do przechowywania informacji na Twoim komputerze. Pliki cookies stosujemy w celu świadczenia usług na najwyższym poziomie, w tym w sposób dostosowany do indywidualnych potrzeb. Korzystanie z witryny bez zmiany ustawień dotyczących cookies oznacza, że będą one zamieszczane w Twoim komputerze. W każdym momencie możesz dokonać zmiany ustawień dotyczących cookies
Informacja
SZANOWNI CZYTELNICY!
UPRZEJMIE INFORMUJEMY, ŻE BIBLIOTEKA FUNKCJONUJE W NASTĘPUJĄCYCH GODZINACH:
Wypożyczalnia i Czytelnia Główna: poniedziałek – piątek od 9.00 do 19.00