The following peculiarities of electron transport in $In_{0.53}Ga_{0.47}As//In_{0.52}Al_{0.48}As$ quantum wells with δ-Si-doped $In_{0.52}Al_{0.48}As$ barriers at high electric fields are discovered: (1) an enhancement of electron mobility by inserting the InAs phonon wall into the $In_{0.53}Ga_{0.47}As//In_{0.52}Al_{0.48}As$ quantum well, as well as increasing the InAs content in the modulation-doped $In_{0.8}Ga_{0.2}As//In_{0.7}Al_{0.3}As$ heterostructure; (2) a large decrease in electron mobility and a change of electron density with increasing electric field in the range of 1-4 kV/cm; (3) a magnetic field dependence of the threshold electric field for intervalley scattering of electrons; and (4) microwave current oscillations in high electric fields.
Ta witryna wykorzystuje pliki cookies do przechowywania informacji na Twoim komputerze. Pliki cookies stosujemy w celu świadczenia usług na najwyższym poziomie, w tym w sposób dostosowany do indywidualnych potrzeb. Korzystanie z witryny bez zmiany ustawień dotyczących cookies oznacza, że będą one zamieszczane w Twoim komputerze. W każdym momencie możesz dokonać zmiany ustawień dotyczących cookies
Informacja
SZANOWNI CZYTELNICY!
UPRZEJMIE INFORMUJEMY, ŻE BIBLIOTEKA FUNKCJONUJE W NASTĘPUJĄCYCH GODZINACH:
Wypożyczalnia i Czytelnia Główna: poniedziałek – piątek od 9.00 do 19.00