Ion implantation followed by laser/pulsed plasma/ion beam annealing : a new approach to fabrication of superconducting MgB2 thin films

Szczegóły
Opis

Tytuł:: Ion implantation followed by laser/pulsed plasma/ion beam annealing : a new approach to fabrication of superconducting MgB2 thin films
Autorzy:: Piekoszewski, J.
Werner, Z.
Barlak, M.
Kolitsch, A.
Szymczyk, W.
Powiązania:: https://bibliotekanauki.pl/articles/146817.pdf
Data publikacji:: 2008
Wydawca:: Instytut Chemii i Techniki Jądrowej
Tematy:: MgB2
superconducting films
pulsed plasma annealing
Źródło:: Nukleonika; 2008, 53, 1; 7-10
0029-5922
1508-5791
Język:: angielski
Prawa:: Wszystkie prawa zastrzeżone. Swoboda użytkownika ograniczona do ustawowego zakresu dozwolonego użytku
Dostawca treści:: Biblioteka Nauki
: Artykuł

Przejdź do źródła

The paper presents a new approach to formation of superconducting MgB2 thin films: ion implantation followed by annealing in an unconventional second step treatment using pulsed laser, plasma, or ion beams. Merits and drawbacks of individual approaches are discussed.

Informacja

Powiązane pozycje